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中美合資合肥科晶材料技術有限公司

11
  • 2022

    09-07

    如何檢查退火爐的氣密性

    退火爐是通過熱處理可以改變鋼的組織結構,從而改善鋼的性能。熱處理可以顯著提高鋼的機械性能,延長機器零件的使用壽命。退火爐是冷軋連續熱鍍鋅生產線中的重要設備,爐內氣氛直接影響產品的表面質量。爐內氣氛的好壞在很大程度上取決于爐子本身的氣密性。連續退火爐氣密性檢查的難點主要在于爐體面積大,管道復雜,可能出現泄漏的部位繁多。對氣密性的檢查要常規化、制度化。1、確定氣密性檢查的重點部位這些重點部位一般包括:1)檢修時更換設備的部位。檢修時動過的爐體和管道部分,都要作為檢查的關鍵部位。2)開啟過的頂蓋、底蓋
  • 2022

    09-07

    熱噴涂和噴焊有區別嗎?熱噴涂鍍膜設備告訴你

    表面工程是指對材料表面進行預處理后,改變金屬表面或非金屬表面的形貌、化學成分、微觀結構和結構,獲得表面特征的表面涂層、表面改性或各種表面工程固體復合處理技術。表面工程技術分為三大類:表面合金化、表面涂層和薄膜涂層技術和表面處理。表面合金化:包括噴焊和堆焊、離子注入、轉化膜技術、擴散滲透、激光熔鍍、熱滲透鍍等表面鍍膜和膜鍍技術:包括電化學沉積、化學沉積、氣相沉積、熱噴涂、電沉積電鍍、化學轉化處理、刷鍍、化學鍍、氣相沉積、涂層和堆焊、金屬染色、熱浸鍍等表面處理:包括激光電子束熱處理技術、噴丸、軋制和
  • 2022

    08-12

    高真空蒸發鍍膜儀需要怎樣的維護和保養?

    高真空蒸發鍍膜儀可提供大100A鍍膜電流,大蒸發溫度高達1800℃,可滿足各種普通金屬和部分非金屬的蒸發。真空室采用高純石英,易于觀察鍍膜過程,易清洗;結合分子泵組,可達到5x10-4pa的極限真空度,有效保證氣相沉積膜的純度和附著力。全自動程序控制,彩色觸摸屏界面,操作簡單,可鍍金(AU)、鉑(PT)等非氧化性貴金屬,也可鍍銥(IR)、鉻(CR)、鋁(AL)等細小顆粒易氧化膜材料。特別適用于場發射電鏡、透射電鏡樣品制備和非晶碳包覆膜/TEM網格支撐膜的制作,也可為薄膜應用等材料領域提供理想的鍍
  • 2022

    08-09

    金剛石線切割的優勢以及需要提高的幾個方面

    金剛石線可以分為電鍍金剛石線和樹脂金剛石線。金剛石切割線是通過一定的方法,將金剛石鍍覆在鋼線上制成,通過金剛石切割機,金剛石切割線可以與物件間形成相對的磨削運動,從而實現切割的目的。金剛石線切割機采用金剛石線單向循環或往復循環運動的方式,使金剛石線與被切割物件間形成相對的磨削運動,從而實現切割的目的。金剛石切割線相比傳統工藝有三大優勢:1)金剛石線切割漏損少,壽命長,切割速度快,切割效率高,提升產能;2)品質受控,單片成本低,金剛石線切割造成的損傷層小于砂漿線切割,有利于切割更薄的硅片;3)環保
  • 2022

    08-03

    雙溫區管式爐這幾個操作小妙招你可以掌握一下

    雙溫區管式爐可裝載四個不同材質的蒸發坩堝舟,可同時將兩個蒸發坩堝源送入管式爐內進行CO蒸發或反應蒸發。可實現快速加熱,通過在每個溫區設置不同的加熱溫度,形成不同的溫度梯度,實現蒸發沉積。雙通道進料系統可在程序控制下推拉兩個裝有不同蒸發材料的坩堝,實現共蒸發或反應蒸發,特別適用于多層二維晶體材料的制備。雙溫區管式爐內部有兩個溫區,可在300℃以內產生不同的溫度梯度;采用PID控制。溫控儀可設置30段升溫、降溫程序,每個溫區可單獨控制;采用KF快速法蘭密封,只需一個卡箍即可完成法蘭連接,放料、取料方
  • 2022

    07-25

    你真的懂雙靶磁控濺射儀嗎?

    磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積(PVD)方法,具有沉積溫度低、沉積速度快、沉積薄膜均勻性好、成分接近靶材成分等優點。傳統濺射技術的工作原理是:在高真空條件下,入射離子(ar+)在電場作用下轟擊靶材,使靶材表面的中性原子或分子獲得足夠的動能,與靶材表面分離,沉積在基板表面形成薄膜。但是,電子會受到電場和磁場的影響而漂移,導致濺射效率低。短的電子轟擊路徑也會導致襯底溫度升高。為了提高濺射效率,在靶材下方安裝了強磁體,中心和圓周分別有N極和S極。由于洛倫茲力的作用,電子被束縛在靶材周圍并繼續做圓周運
  • 2022

    07-14

    多功能試樣表面處理機制膜時可以設置三種模式

    多功能試樣表面處理機是一種用于掃描電鏡和電子探針的樣品制備設備,可用于真空碳蒸鍍、真空鍍膜和離子濺射,在高純氬氣保護下也可用于各種離子處理。本設備處理后的樣品既可用于樣品的外觀觀察,也可用于成分分析,尤其是成分的定量分析。本儀器配備機械泵和分子泵,分子泵系統特別適用于對真空度要求高、真空環境好的用戶。多功能試樣表面處理機將硅片放入真空反應系統,通入少量氧氣,加1500V高壓,高頻信號發生器產生高頻信號,從而形成強電磁場石英管中,氧氣被電離,形成由氧離子、活性氧原子、氧分子和電子混合而成的等離子體
  • 2022

    07-13

    小小的蠕動泵能夠應用在哪些行業

    蠕動泵是一種可控制流速的液體輸送裝置,具有輸送精度高、較強的耐腐蝕性、剪切作用小、操作簡單及易于維護等優勢,所以廣泛應用在科研、制藥、化工、環保、飲料、食品、印刷等各領域。其在科研實驗室常被用于細胞組織輸送、標本脫色、灌注、液體色譜分析以及酸性或堿性溶液輸送等。實驗室領域蠕動泵在小體積流體分配和計量方面具有很好的重復性精度。無需安裝任何閥,消除了流體常見的阻塞及虹吸現象。實驗室研發過程中常見的應用場合有:細胞組織輸送、標本脫色、灌注、液體色譜分析以及酸性或堿性溶液輸送。食品、化工領域許多現有泵管
  • 2022

    07-05

    管式爐在使用過程中該如何對減壓閥進行通氣?

    管式爐爐管內的壓力應保持在1個標準大氣壓,不得低于1個標準大氣壓或大于0.02MPa。這種方法可以保證爐管內的壓力在這個范圍內,氣瓶必須配備減壓閥。建議選擇0-0.6mpa范圍的減壓閥。不要選擇大范圍的減壓閥(如0-2.5mpa),這樣不準確,容易爆裂石英管。減壓閥開到0-0.05mpa為宜,不能超過0.05Mpa。當管式爐爐溫超過1000℃時,不允許在爐管內進行真空燒結。最好保持微正壓狀態,保護燒結氣氛。建議長時間使用的石英管溫度不超過11??00℃。如果您擔心氣壓太高或燃燒物有氣體排放,可以
  • 2022

    06-23

    箱式爐淬火前需要做哪些準備工作?

    箱式爐采用雙層外殼結構和PID程序控溫系統,移相觸發,可控硅控制。該爐采用氧化鋁多晶纖維材料制成,雙層爐殼之間裝有風冷系統,可快速升降溫。外殼整體密封,蓋板用硅膠泥密封,爐門用硅膠墊片密封,氣體通過流量計后進出后室。多爐進出口,可預抽真空,可通氬、氮氣、氧氣、惰性氣體等。爐具有溫度場平衡、表面溫度低、升降溫速度快、節能等優點,是大專院校、科研院所、工礦企業進行氣氛保護燒結和氣氛還原的理想產品。1、可接觸氣體:所有惰性氣體、氮氣、氬氣、氧氣、二氧化碳、水蒸氣等。2、外觀設計:采用人性化設計,美觀大
  • 2022

    06-15

    管式爐使用前需要做好哪些準備工作?

    管式爐是在沉底材料上生長優質石墨烯、碳納米管和碳化硅的專用設備,廣泛應用于半導體、納米材料、碳纖維、碳化硅、涂層等新材料和新工藝。它在使用前需要做好哪些準備工作呢?1、設計溫度升降曲線。升溫速率不得高于10℃/min,降溫速率應低于15℃/min。2、清潔環境。3、每周開始使用時,檢查機械泵油路是否在標線以上,取下兩端蓋板,用吸塵器清潔剛玉爐管。4、將樣品舟推入剛性管式爐中間(恒溫長度10cm)。5、塞住兩個絕緣爐塞,使第二個爐塞的末端與爐體側面齊平。6、安裝燃氣爐法蘭,確認墊片落入凹槽內。管式
  • 2022

    06-10

    你知道真空蒸鍍儀常見的蒸發源有幾種嗎

    真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來,并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且最終沉積在基片表面,經歷成膜過蒸發鍍膜設備+所鍍產品圖蒸發鍍膜設備+所鍍產品圖程
  • 2022

    06-08

    說起超聲波霧化模塊的優點那可真是太多了

    噴涂一直存在于我們的生活中,長期以來被用于多種用途,包括噴涂裝飾性和保護性涂料。因此,它是材料科學家制備薄膜的又一工具。在噴涂中,噴嘴尺寸、噴涂形狀、噴嘴到基材的距離、噴涂速度和噴涂過程中基材的加熱都是可控的參數,以達到理想效果。使用超聲波霧化模塊,可使噴霧溶液均質化,霧滴大小得到有效控制(噴嘴頻率會影響霧滴大小),可分布微霧量,從而保證成分和結構的均勻性和所得薄膜和圖案的準確性。材料浪費保持在低限度,設備操作人員的風險很小。超聲波霧化模塊的工作原理是利用超聲波換能器將高頻聲波轉化為機械能,再轉
  • 2022

    05-13

    磁控濺射的種類有幾種

    電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響,被束縛在靠近靶面的等離子體區域內,該區域內等離子體密度很高,二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動,該電子的運動路徑很長。磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點:利用磁場與電場交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運行,從而增大
  • 2022

    05-13

    直流等離子磁控濺射鍍膜儀使用須知

    直流等離子磁控濺射鍍膜儀是一種小型直流(DC)等離子磁控濺射鍍膜系統,該系統包括所有必需的附件,如500W(600V)直流電源、2英寸磁控濺射頭、石英真空室、真空泵和溫度控制器。主要由濺射真空室、磁控濺射靶材、樣品臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機和真空測量裝置組成。高真空濺射可用于制備金屬、半導體、絕緣體等薄膜材料。具有設備簡單、易控制、涂布面積大、附著力強等優點,可用于大專院校和科研院所的薄膜材料的研究和制備。直流等離子磁控濺射鍍膜儀濺射鍍膜的原理是異常輝光放電中的稀有氣體產生的等離子體在電場作
  • 2022

    05-10

    箱式爐需要怎樣的安全保護?

    采用新型保溫材料的箱式爐具有體積小、重量輕、保溫效果好、升溫速度快等優點。面板材質為不銹鋼;外形美觀,操作簡單,維護方便,爐后設有可控煙囪;適用于煤、焦化產品和化工原料的化學分析。五面加熱(左、右、前、后、下)可獲得均勻的溫度場。1、雙熱電偶雙儀表控溫檢測,確保不發生超溫實驗事故。2、爐膛材料采用高純氧化鋁纖維(表面涂有美國進口高溫氧化鋁涂層,可提高加熱效率、反射率、爐膛清潔度,延長使用壽命)。3、采用雙層殼體結構和風冷系統,使殼體表面溫度低于60℃。4、爐體頂部有排氣孔,可將爐腔內的腐蝕性氣體
  • 2022

    04-22

    等離子清洗機使用時需要注意些什么?

    等離子清洗機廣泛應用于等離子清洗、蝕刻、等離子電鍍、等離子鍍膜、等離子灰化和表面改性。通過它的處理,可以提高材料表面的潤濕性,從而可以對多種材料進行涂層、電鍍等操作,增強附著力和結合力,同時去除有機污染物、油或油脂。等離子清洗裝置包括四個主要部件:激發電源、真空泵、真空室和反應氣源。激勵源是為氣體放電提供能量的電源,可以采用不同的頻率;真空泵的主要作用是去除副產品,包括旋片機械泵或增壓泵;以及在真空室中進行放電電離的電極。反應氣體轉化為等離子體。反應氣體通常為氬氣、氧氣、氫氣、氮氣和四氯化碳等單
  • 2022

    04-14

    使用涂覆機之后應該怎么對其進行清洗

    涂覆機的使用和維護能否穩定可靠地運行已經成為設備維護人員關注的焦點,涂覆機的清洗也受到用戶的關注。涂覆機的清洗方法主要有三種:一、傳統的清洗方法。用二氯甲烷、DMF等揮發性溶劑清洗混合頭。這種方法清洗*,成本低,但最大的問題是污染環境。因為是化學品,揮發性,有毒,不可回收,違背了現在提倡的綠色環保趨勢,所以使用有限,逐漸不被市場接受,慢慢淘汰。二、高壓水清洗。雖然這種方法無毒、成本低、操作簡單,但行業內普遍存在清洗不*的問題;同時,高壓水清洗會浪費水資源,產生大量工業廢水,不是很好的清洗方法。三
  • 2022

    04-12

    研磨拋光機系列都適用于哪些場合?

    研磨拋光機系列主要用于石英晶體片、硅片、鍺片、LCD光學鏡片、led藍寶石基板、藍寶石手機玻璃窗、石英基板、投影儀玻璃平臺、印刷電路曝光玻璃板、陶瓷片、功能陶瓷基板、陶瓷、CNC刀片、時鐘玻璃、外殼表面、背光導光板、手機五金件、后視鏡、電磁爐微晶玻璃、ITO導電玻璃太陽能電池硅片、大理石平臺、活塞環、移印鋼板、金屬閥片、peek閥片、陶瓷閥片、硬質合金密封圈及各種泵用機械密封(碳化硅、碳化鎢和石墨)、高速鋼和鎢刀片、縱切刀片、銅、鋁片,鉬片,不銹鋼片,塑膠模具鋼,五金裝飾板,鐵氧體磁芯,鈮酸鋰,
  • 2022

    04-07

    小型真空管式爐各部分結構都有怎樣的優勢特點?

    小型真空管式爐是一種高性能、節能的新型電爐,具有安全可靠、操作簡單、控溫精度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐溫均勻度高、高溫區、可選氣氛和真空爐型等特點,主要應用于冶金、玻璃、熱處理、鋰電池正負極、新能源、模具等行業。它不僅可以抽真空,還可以氣體保護。該結構使爐管拆裝方便,操作簡單。用戶可直接將密封腔移出爐體,加快冷卻過程。透明的石英管腔可以直接看到樣品的燒結狀態。法蘭采用卡箍式快速接頭,省去了取料和卸料時的繁瑣操作。爐管工件用上下6組進口電阻絲穿過爐膛。溫度場均勻,內外溫差可控制在3度左右。氣動
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