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2022
03-28

超聲波霧化模塊無需加熱即可霧化水或水溶液
超聲波霧化模塊是根據超聲波霧化原理工作的組件。因為通常作為加濕機產品的核心部件，所以也叫超聲波霧化配件，簡稱霧化配件。壓電陶瓷片（俗稱超聲波霧化片）安裝在盛水容器底部，驅動控制電路產生與霧化片諧振頻率一致的驅動電壓。當應用于霧化片時，霧化片會產生振蕩能量。振蕩能量沿垂直于霧化器表面的方向在水中傳播。在水深適當的情況下，能量傳播軸上的水面中心會鼓起一個水柱。大量小的張力波出現在水柱前端，大大降低了隆起水面的表面張力，水面被表面張力波的波長劃分為許多小區域，每個區域似乎沒有相互結合，獨立地變成一個個
2022
03-22

等離子鍍膜設備發揮的作用還真不少
等離子鍍膜設備是一種小型射頻（RF）等離子磁控濺射鍍膜儀器系統。該系統包括所有必需的配件，如300W（13.5mhz）射頻電源、2"磁控濺射頭、石英真空室、真空泵和溫度控制器。它是制作一些金屬和非金屬的又好又便宜的實驗幫手。在鍍膜領域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的重要因素。因此，在評價薄膜樣品的性能時，需要對薄膜樣品在不同厚度下的性能進行測試。等離子鍍膜設備集成了真空鍍膜系統和手套箱系統，可在高真空蒸發室中完成薄膜蒸發，并將蒸發后的樣品在手套內的高純惰性氣體氣氛中儲存、制備和檢測盒子。蒸
2022
03-18

操作輥壓機出現波動會是什么原因
輥壓機由機架、兩個輥系、傳動裝置、扭矩支承、輥罩、進料裝置、液壓(加壓)系統、主軸承潤滑系統、干油潤滑系統、電氣系統、拆輥裝置等部份組成。在中控操作的過程中，輥壓機出現波動大致可概括為三方面原因：一是物料因素的影響；二是輥壓機電氣/機械方面故障所致；三是工藝流程上的影響因素。1物料因素的影響1.1通過輥壓機的物料細粉量過多因細粉的密實度低，其間夾雜著氣體。當細粉量過多物料經過高壓力區被擠壓后密實度會增高，但細粉中夾雜的氣體會聚集成氣泡，在高壓力作用下氣泡被擠壓破裂，從而導致輥壓機振動。其次細粉之
2022
03-15

1100℃微型箱式爐的使用需要注意這三點
1100℃微型箱式爐采用電阻絲作為加熱元件，K型熱電偶和30段可編程溫度控制器。下拉式爐門結構，方便客戶放樣；爐體采用氧化鋁微晶纖維。溫度可達1100℃，可連續工作1000℃，控溫精度±1℃；能耗500W還配備通風接口，可在氧氣或惰性氣體下使用。該爐具有體積小、重量輕、溫場平衡、升降溫速度快、節能等優點，此外，該設備還可置于手套箱內，在真空和可控氣氛下進行樣品燃燒，是大專院校、科研院所及工礦企業進行高溫燒結、金屬退火及質量檢測的理想產品。電阻絲為發熱體，采用雙層外殼結構，智能溫控系統，該爐采用氧
2022
03-09

箱式爐在維護時有哪些特殊需要注意的事項
箱式爐主要供合金鋼制品、各種金屬機件正火、淬火、退火等熱處理之用，或金剛石等切割刀片進行高溫燒結用途。廣泛用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、新材料開發、特種材料、建材等領域的生產及實驗。熱電偶將爐溫轉變成電壓信號后，加在微電腦溫度控制調節儀上。調節儀將此信號與程控設定相比較，輸出一個可調信號。再用可調信號控制觸發器，再有觸發器觸發調壓器，達到調節電爐電壓和電爐溫度的目的。箱式爐的維護注意事項1.爐子使用或長時間不用后，要在120℃左右烘烤1小時，在300℃左右烘烤2小時后使用，以
2022
03-07

使用1200℃開啟式管式爐要注意的細節還真不少
1200℃開啟式管式爐具有基礎溫度低、沉積速度快、成膜質量好、針孔少、不易開裂等優點；在此過程中，由于等離子體中的高速電子撞擊中性反應氣體分子，中性反應氣體分子會變成碎片或處于活化狀態，容易發生反應；在射頻的幫助下，含有薄膜原子的氣體在局部形成等離子體，等離子體具有很強的化學活性，易于反應在基板上沉積所需的薄膜；高真空系統由兩級旋片真空泵和分子泵組成，真空度可達0.001pa；數字質量流量控制系統由多通道質量流量計和流量顯示儀表組成，實現氣體流量的精確測量和控制；每條燃氣管道均配備高壓止回閥，確
2022
01-21

使用管式爐一定要遵循的注意事項
管式爐主要運用于冶金，玻璃，熱處理，鋰電正負極材料，新能源，磨具等行業，測定材料在一定氣溫條件下的專業設備。爐型結構簡單，操作容易，便于控制，能連續生產。管式爐使用的注意事項注意一電爐操作工應具備國家相應電氣設備操作資格，并熟讀隨機儀表說明書等技術文件!溫度系統操作:用戶開關板給電爐送電，此時程序表得電，按溫度儀表(如右圖)說明書設定儀表(如P、I、D參數)，按工藝要求編制加熱程序，打開加熱旋鈕,使加熱功率到達6KW。加熱功率可按下式計算:加熱功率=儀表電壓×儀表電流正常加熱電流約為:22A，加
2021
10-09

小型磁控射頻濺射鍍膜儀的理想性能值得你來體驗
就像把石頭扔進平靜的湖水會濺出水一樣，用高速離子轟擊固體表面會使近表面的原子（或分子）從固體表面逃逸。這種現象稱為濺射現象。濺射意味著具有足夠高能量的粒子轟擊固體表面以發射原子。早期的人們認為，這種現象源于目標的局部加熱。然而，人們發現濺射和蒸發有本質區別，人們逐漸認識到濺射是轟擊粒子與靶粒子之間動量傳遞的結果。小型磁控射頻濺射鍍膜儀磁控濺射利用磁場束縛電子的運動，提高電子的電離率。與傳統濺射相比，具有“低溫”和“高速”兩大特點。磁控射頻濺射鍍膜儀具有小型化、標準化的特點。磁控管靶有1英寸和2英
2021
09-14

高真空蒸發鍍膜儀可實現多層涂裝混合涂裝
高真空蒸發鍍膜儀采用前開門真空室設計，室高增加到500mm。樣品臺與蒸發源之間的距離有較大的調節范圍，可適應多種蒸發要求，避免樣品在蒸發源中高處損壞。高真空蒸發鍍膜儀配有四套鎢舟蒸發源和水冷銅電極。每個蒸發源支持100A的大電流和1800°C的加熱溫度，可實現多層涂裝或多種材料混合涂裝。型腔采用上樣品臺，樣品臺可旋轉、加熱、升降，所有操作均可通過觸摸屏集成控制。設備真空系統為兩級旋片泵和渦輪分子泵組成的兩級真空系統，可提供潔凈無油的高真空環境。該設備配有氣動閥門系統。通過操作系統的自動控制，用戶
2021
08-10

多功能試樣表面處理機能賦予材料新的表面性能
多功能試樣表面處理機是一種用于掃描電子顯微鏡和電子探針樣品制備的設備。可在高純氬氣保護下進行多種離子處理。也可以對碳和金屬進行真空蒸鍍。該設備處理的樣品既可用于樣品的形貌觀察，也可用于成分分析。尤其是成分的定量分析更適合。該設備采用分子泵和機械泵組成的高真空單元系統。試樣以三種方式移動：平面旋轉、傾斜旋轉和傾斜進動。多功能試樣表面處理機功能可以賦予材料新的表面特性。這些特性隨時間逐漸衰減的特性稱為老化。一般認為，等離子體表面處理對材料的影響涉及到表面活化、交聯、表面蝕刻等多個復雜過程。表面活化賦
2021
07-26

熱噴涂鍍膜設備都有哪些得天獨厚的優勢？
熱噴涂鍍膜設備濺射鍍膜是將基體和靶材置于真空腔內，用電子或高能激光轟擊靶材，使表面成分以原子團或離子的形式濺射出來，沉積在表面基板，通過成膜工藝形成薄膜。粉末壓制燒結法和粉末熱等靜壓法常用于小尺寸平面靶材的生產。前者制作的靶材純度較低，而后者制作工藝復雜，特別是在合金靶材的生產中，成分不*均勻。靶材的大尺寸和高利用率是涂層領域的新趨勢，熱噴涂鍍膜設備等離子噴涂的諸多特點顯示出其在生產大尺寸、高利用率靶材方面的*優勢。1、等離子噴涂火焰溫度高，熱量集中，幾乎可以熔化所有高熔點粉末材料，可根據工件表
2021
07-15

說說高真空蒸發鍍膜儀的適用范圍
高真空蒸發鍍膜儀是一種高真空蒸鍍機，特別適用于對氧敏感的金屬薄膜（如Ti、Al、Au等）的蒸鍍，也適用于各種氧化物材料的蒸鍍。本機配備四只蒸鍋，每只蒸鍋均配有擋板，如果改變部分配置，還可以實現有機材料的蒸鍍，可以滿足發光器件和有機太陽能電池的研究需求，是一種涂裝效果理想的實驗設備。原理：基于電阻蒸發原理，利用大電流對鉬舟或鎢藍或固定支架上的鍍膜材料進行加熱，使其在高真空下蒸發并沉積在鍍膜樣品上，以獲得最佳鍍膜效果。采用大抽速、高壓縮比、自然風冷卻復合分子泵，保證電鍍時蒸發源和樣品排出的氣體能被快
2021
07-07

雙溫區管式爐的使用必須嚴格按照操作手冊進行
雙溫區管式爐采用精密鋼板制作，表面靜電噴塑，外形美觀。工作室由剛玉管制成，加熱元件根據溫度需要匹配（硅碳棒或硅鉬棒），保溫材料為輕質保溫保溫加硅酸鋁耐火纖維棉，與電爐配套的溫控部分采用PID可調智能儀表控制可對多個程序段進行編程控制產品的燒成過程，并具有過流、限流、過熱等保護功能。雙溫區管式爐主要用于高校實驗室、工礦企業實驗室，用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的開發、晶體硅襯底涂層、金屬材料擴散焊和真空或氣氛中熱處理等設備必須按照操作規范使用，還應注意以下幾點：1、檢查氣路是否暢通或泄漏。
2021
06-29

立式真空水淬爐技術及應用的研究
立式真空水淬爐是源于鈦合金材料在航天航空領域大量使用而研發制造的，主要針對α+β型鈦合金材料真空加熱之后快速淬火(固溶處理)的一種新型熱處理設備。大家都知道，鈦的密度為4.51g/cm3，鈦合金很輕，如Ti-6Al-4V的密度僅為4.42g/cm3，鈦合金材料經固溶處理再時效強化后的比強度遠高于高強度鋁合金、鎂合金、高溫合金和高強度結構鋼，甚至與超高強度鋼相當，因此被廣泛應用于航空航天、船舶、生物醫用、化工、汽車等領域。如美國F-22戰機上鈦合金的用量已高達41%，而鋁合金和鋼的用量分別只有15
2021
06-27

等離子清洗機中的等離子體與普通氣體有什么區別？
無論是大氣(常壓)等離子清洗機，還是真空(低壓)等離子清洗機，在對材料進行表面改性的時候都會通入工藝氣體，如無水無油的干凈壓縮空氣，有一定純度要求的氮氣、氧氣、氬氣等等離子清洗機中通入的普通工藝氣體要想轉化為等離子體，每個粒子大約需要：：（1~30eV（1eV=1.6022×10-19焦耳）的能量，其中的粒子具有較高的活性和能量密度。但要注意的是，電離的氣體不一定是就是等離子體，雖然等離子體和普通氣體存在一些共同特點，如它們均滿足氣體狀態方程，但它們卻有截然不同的性質，PCE-6小型等離子清洗機
2021
06-24

多功能試樣表面處理機能讓產品干凈光潔，不信你看！
近年來，市場對質量的要求越來越嚴格，國際上對環保的要求也越來越嚴格，我國許多高密度清潔行業面臨嚴峻挑戰。現在市面上出現的超聲波清洗機都無法達到改裝的效果，它們只能清潔表面上的一些可見物體。由于制造過程中的各種缺陷，衍生出等離子清洗機等高科技產品。多功能試樣表面處理機可以實現表面改性、清洗和產品性能提升，大大降低了產品在制造過程中造成的不良率，從而提高了產品質量，降低了成本等等。目前，等離子清洗機給很多工業生產企業帶來了很大的便利。多功能試樣表面處理機將硅片置于真空反應系統中，通入少量氧氣，加15
2021
06-15

鼓風烘干箱的使用維護及注意事項
鼓風干燥箱又名烘箱，因靠風循環來保證箱體的試驗溫度而得名，是實驗室常用儀器設備之一，廣泛應用于工礦企業、院校、科研、醫療單位及實驗室作物品干燥、烘焙、熔蠟、滅菌等使用。鼓風烘干箱DHG-9000J主要特點：設備的控制系統，具有安全可靠、操作簡單、控溫精度高(專家PID控制)、保溫效果好、溫度范圍大、爐膛溫度均勻性高等特點。今天我為大家簡單介紹鼓風干燥箱的使用注意事項，以及常見故障問題和解決方法。一、鼓風干燥箱的使用注意事項（一）使用前確保鼓風干燥箱的正常工作條件1、環境溫度：5℃～40℃；2、相
2021
06-15

小型蒸鍍儀全自動控制，適用于各種用戶
小型蒸鍍儀是一種小型臺式加熱功率可控蒸發鍍膜儀器，儀器雖小，功能齊全，但具有電壓電流反饋、樣品臺旋轉、樣品高度調節、電動擋板等功能。通過定期調節預熱功率和蒸發功率，可以使大部分金屬均勻蒸發沉積。真空室為透明石英玻璃，以減少樣品污染。可旋轉樣品臺以獲得更均勻的薄膜，并可制備各種金屬薄膜和有機物。1、小型蒸鍍儀可以使用多種類型的碳絲進行真空鍍膜。蒸發是*的，全自動操作系統使工作時間相對減少，只需5分鐘。2、系統采用低電壓大電流，電極間放置碳絲。3、電極裝置裝有保護擋板，以保護樣品在碳化脫氣過程中不受
2021
06-07

等離子濺射儀工藝及技術
濺射沉膜技術是以一定能量的粒子(離子或中性原子、分子)轟擊固體表面，使固體近表面的原子或分子獲得足夠大的能量而最終逸出固體表面的工藝。濺射只能在一定的真空狀態下進行。濺射工藝主要用于濺射刻蝕和薄膜沉積兩個方面。濺射刻蝕時，被刻蝕的材料置于靶極位置，受氬離子的轟擊進行刻蝕。刻蝕速率與靶極材料的濺射產額、離子流密度和濺射室的真空度等因素有關。濺射刻蝕時，應盡可能從濺射室中除去濺出的靶極原子。常用的方法是引入反應氣體，使之與濺出的靶極原子反應生成揮發性氣體，通過真空系統從濺射室中排出。VTC-16-3
2021
06-04

以下這些就是雙溫區管式爐的安全保護
雙溫區管式爐集成了控制系統和爐膛，爐襯采用真空成型的高純氧化鋁聚輕材料，采用硅碳棒作為加熱元件，均勻分布在爐管兩側，溫度場均勻可靠。鎳基合金材料制成的金屬爐管配有CF法蘭密封形式和金屬紫銅密封圈，提高了設備??的工作溫度，可在一定的高壓條件下實現實驗。工件圖案在管內加熱，加熱元件平行于爐管，均勻分布在爐管外，有效保證了溫度場的均勻性。1、模糊PID控制和自整定調節功能。2、智能30段可編程控制。3、具有超溫、斷線報警功能。4、溫控精度：±1℃。5、K型熱電偶。6、可安裝PC控制軟件，實時采集數據

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