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PlasmaPro 80 PECVD

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PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)快速晶圓裝卸，是研究、原型設(shè)計(jì)和小批量生產(chǎn)的理想選擇。它通過(guò)優(yōu)化的電極冷卻和出色的襯底溫度控制來(lái)實(shí)現(xiàn)高性能工藝。詢價(jià) 增加到詢價(jià)列表在詢價(jià)列表中查看此產(chǎn)品

詳細(xì)介紹

高質(zhì)量PECVD沉積氮化硅和二氧化硅，用于光子學(xué)、電介質(zhì)層、鈍化以及諸多其它用途
用于高亮度LED生產(chǎn)的硬掩模沉積和刻蝕

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