首頁>>牛津儀器(上海)有限公司>>產品展示>>PECVD
PlasmaPro 80 PECVD 參考價：面議
PlasmaPro 80是一種結構緊湊且使用方便的小型直開式系統，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設計可實現快...
PlasmaPro 800 PECVD 參考價：面議
The PlasmaPro 800 offers a flexible solution for Plasma Enhanced Chemical Vapour...
PlasmaPro 100 PECVD 參考價：面議
設計PECVD工藝模式的目的是要在控制薄膜性能，如折射率、應力、電學特性和濕法化學刻蝕速率的前提下，生產均勻性好且沉積速率高的薄膜。詢價 增加到詢價列表 在詢價...
PlasmaPro 1000 參考價：面議
大面積刻蝕與沉積的量產型解決方案詢價 增加到詢價列表 在詢價列表中查看此產品
3