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日本ULVAC愛發科高密度等離子刻蝕設備
日本ULVAC愛發科高密度等離子刻蝕設備
研究開發的高密度等離子蝕刻系統NE-550EX是采用磁場ICP（ISM=感應超級磁控管）方式的高密度等離子蝕刻系統，為單晶圓型，標配LL室。 ，使其結構緊湊且價格低廉。
與其他ICP方式相比，磁場輔助可在更低的壓力、更低的電子溫度和更高的密度下產生等離子體，并且可以進行從離子蝕刻到自由基蝕刻的廣泛等離子體控制，因此作為開發工具適用于各種工藝。
配備“星形電極"，防止沉積物粘附在射頻輸入窗口上。該設備還具有加熱功能，其設計注重再現性和穩定性。
我們實現了作為研發工具的可靠性，例如高可靠性的運輸機器人、簡單的裝置結構和易于維護。
豐富的可選功能，可增設暗盒室。
NE-5700和NE-7800可兼容同一個腔體配置的多個腔體，適用于大規模生產線。
復合材料（LED、LD、高頻器件、功率器件）。
電極、金屬布線、有機薄膜、陶瓷等加工
用于加工難以蝕刻的材料，如鐵電體、貴金屬和磁性薄膜。
納米壓印、NEMS、MEMS、各種傳感器。
生物芯片、微流控器件、光子晶體等
| 物品 | 規格 |
| 系統配置 | 研發/樣機設備+裝載鎖室 |
| 板尺寸 | ～150毫米 |
| 工作壓力（Pa） | 0.07~6.7 |
| 面內/面間均勻性 | 最大±3% |
| 基板溫度控制 | 靜電吸盤 |
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