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詳細摘要： 專用掃描透射顯微鏡HD-2700，配備了與德國CEOS GmbH公司(總經理Max Haider先生)共同開發(fā)的球差校正儀，顯著提高了掃描透射電子顯微鏡的性能，...

詳細摘要： 日立高新超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡SU9000是專門為電子束敏感樣品和需最大300萬倍穩(wěn)定觀察的*半導體器件，高分辨成像所設計。

詳細摘要： 日立高新場發(fā)射掃描電子顯微鏡SU8200系列（HITACHI UHR FE-SEM SU8200 Series，SU8220，SU8230，SU8240）采用日...

詳細摘要： FE-SEM獲得的圖像分辨率高，信息豐富，樣品處理相對簡單，并且它可以觀察、測量并分析樣品的細微結構，因此被廣泛應用于納米技術、半導體、電子器件、生命科學、材料...

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詳細摘要： XRF 分析（X射線熒光）與高度靈活和強大的能量色散X射線熒光 （EDXRF） 光譜儀 X-Supreme8000 和 Lab-X5000，在各種應用中保證質量...