BV-10鍛針儀使用簡單，可對 0.1 至 100 µm 的顯微注射針尖進行精確消磨。sutter鍛針儀的磨盤驅動系統可以無振動更好地控制研磨過程。

細胞內記錄電極需要進行斜切處理，因為：

l  通過在電極上磨出尖點來減小針尖直徑

l  由于管腔的橫截面積變大，電極的電阻降低。

這樣可以更容易穿透細胞外壁，顯微注射針尖也需要斜切，它可以促進針尖以最小的直徑進入細胞，避免損傷細胞，同時還可以增加針尖注射液體的通過性。

磨針儀的研磨系統由一個固定的基座組成，它具有半波 (250 nm) 的光滑平面，表面安裝在沉重的基板上用作磨盤的軸承，磨盤的表面也是半波的光滑平面。低速電機通過履帶帶動底部基座，再通過磁力吸附平面磨盤從而提供無擺動的研磨表面。

一個二軸顯微操作器將移液管固定在斜面上，并通過微分旋鈕將移液管推到研磨表面上。斜角和推進速度可調。并且帶有LED 燈為磨盤和移液管提供照明來幫助研磨操作。

磨針儀系統帶有兩個可選的兩個磨盤、一個帶支架的面布條（用于打濕磨盤）、底座油、脫脂液和手冊。

有兩個選件可用于監控研磨過程，一個 40X 體式顯微鏡和一個電極阻抗計. 根據您的研究應用來進行選購。對于研磨顯微注射針的應用，需要選擇體式顯微鏡來觀察移液管前推到磨盤上的控制精度。對于微電極的應用，阻抗計用于監測研磨操作期間的針尖電阻。該儀表采用模擬電路設計，提供三個電阻范圍（0-10、0-100、0-500 MOhm）。以 12 Hz 的頻率進行測量，有效地減少測量阻抗，并提供最真實的直流電阻值，減小 50/60 Hz 干擾，

特征

1.         無振動、磁吸磨盤

2.         磨盤表面光滑平整度達到半波 (250 nm)

3.         具有精細的磨盤

4.         轉動電機具有穩定的轉速

5.         7 磅重的鋼底板增加穩定性

6.         一體式LED燈

7.         顯微操縱器穩定控制斜角和前推研磨