ULVAC愛發科 應用與客戶案例

真空泵（高真空）渦輪分子泵 

什么是渦輪分子泵？

　渦輪分子泵是一種由帶有渦輪形葉片的轉子（動葉片）和定子（定葉片）組成的分子泵。

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渦輪分子泵的特點

　渦輪分子泵由高速旋轉的轉子葉片和保持靜止的固定葉片組成。轉子以每秒數萬次的速度旋轉，并可能因大氣中的應力（阻力）而損壞。

　因此渦輪分子泵必須在一定的真空度下使用，因而需要干泵或油旋片真空泵等輔助泵。

【優點】在分子流區域，排氣速度恒定，可以連續排氣。

【缺點】高速旋轉時要注意安全。

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渦輪分子泵的工作原理

　渦輪分子泵具有交替排列的旋轉葉片和靜止葉片。進入進氣口的氣體分子被快速旋轉的轉子葉片賦予動量，并被送往下級。通過多個壓縮階段，氣體分子被壓縮并被排出廢氣。

渦輪分子泵的主要應用

　半導體制造設備、沉積設備、濺射設備、分析設備、蝕刻設備、加速器、FPD制造設備等。

?光刻機、?薄膜沉積設備、?刻蝕設備、?離子注入設備、?化學氣相沉積（CVD）、?物理氣相沉積（PVD）、?退火與擴散等。

光刻機是生產大規模集成電路的核心設備，制造和維護需要高度的光學和電子工業基礎。

薄膜沉積指在晶圓表面生成多種薄膜，這些薄膜可以是絕緣體、半導體或導體。它們由不同的材料組成，是使用多種工藝生長或沉積的。通用的沉積技術有化學氣相淀積（CVD）、蒸發和濺射PVD。一般采用以磁懸浮分子泵為主的無油真空系統。

離子注入設備：離子注入是指在真空環境下，當離子束射向固體材料時，受到固體材料的抵抗而速度慢慢減低下來，并最終停留在固體材料中的現象。離子注入是半導體表面附近區域進行摻雜的主要技術，其目的是改變半導體的載流子濃度和導電類型。

刻蝕是用化學或物理方法有選擇地從硅片表面去除不需要材料的過程。刻蝕的基本目標是在涂膠的硅片上正確地復制掩膜圖形。現代化的干法刻蝕設備包括復雜的機械、電氣和真空系統，同時配有自動化的刻蝕終點檢測和控制裝置。刻蝕應用工況復雜，清潔性差，充入特種氣體種類繁多，因此需要特殊處理的干泵和磁懸浮分子泵。

應用行業：

電子電氣領域、半導體領域、醫療領域、光學儀器行業、冶金領域、真空鍍膜技術、航空航天領域等。

廣泛應用于鍍膜、電子、半導體、太陽能、真空爐、化工、離子刻蝕、光盤制造、制燈、航空航天、核能源等相關行業和教學、科研單位。

1 電子電氣?：在電子電氣領域，渦輪分子泵常用于離子注入機、光刻機、刻蝕機、薄膜沉積設備等半導體制造設備中，幫助實現高真空環境，從而提高制造精度和產品質量?。

2 ?醫療?：在醫療領域，渦輪分子泵可用于醫療設備的制造，如負壓吸引系統等，同時也在醫藥制造中發揮重要作用?。

3 ?光學儀器?：渦輪分子泵在光學儀器中應用廣泛，包括質譜分析、電子顯微鏡等設備，提供必要的真空條件，確保設備的正常運行和精確測量?。

4 ?航空航天?：在航空航天領域，渦輪分子泵用于飛機發動機系統，確保發動機在高空中的穩定運行?。

5 ?金屬冶煉?：在冶金領域，渦輪分子泵可用于抽取金屬溶液中的氣體，提升金屬純度?。

6 ?真空鍍膜技術?：渦輪分子泵在真空鍍膜技術中應用廣泛，用于表面保護、裝飾涂層、顯示技術等?。

7 ?科研設施?：在科研設施中，渦輪分子泵用于核粒子物理學、核聚變研究、激光應用等高能物理和科研項目中，提供清潔的超高真空環境?。

此外，渦輪分子泵還廣泛應用于太陽能、真空爐、離子刻蝕、光盤制造、制燈、核能源等相關行業和教學、科研單位?。