前言：半導體行業屬于電子信息產業，是當今世界經濟發展的重要引擎之一。自20世紀50年代晶體管發明以來，半導體行業經歷了從鍺時代到硅時代的演變，現在已進入第三代半導體——寬禁帶半導體時代。在半導體行業的發展歷程中，無數次的技術革新和產業升級，推動著整個產業鏈向前發展。今天我們主要來了解半導體制造中的超純水設備性能。

我們都知道，從半導體制造的原材料，到器件的制造和封裝，每一個環節都需要精密的技術和設備，對于半導體的制造過程中的用水要求也是格外嚴格。半導體生產中的用水純度對于產品的質量和生產效率具有極其重要的影響。超純水設備作為一種能夠生產超純水的新型設備，被廣泛應用于半導體制造過程中。該設備生產出的超純水電阻率達到18 MΩ*cm，幾乎不含任何雜質、細菌、病毒等，可用作半導體領域。

這樣的超純水設備具有怎么樣的突出性能呢？

1、產水穩定品質高。對比傳統超純水生產工藝，該設備多是采用膜技術，在應用反滲透加EDI系統加拋光混床模塊相結合的工藝來制取超純水，出水水質符合國家電子級超純水標準GBT11446.1-1997EW-Ⅰ標準。

2、設備中應用的EDI模塊無需使用化學品的再生，運行成本低，EDI系統的自動化程度很高，連續工作，出水水質好且穩定，出水電阻率結合拋光混床模塊可達到18 MΩ*cm。

3、該超純水設備采用專用的膜元件，在保證系統高回收率的同時，有效提高系統的產水水質。

4、該超純水設備具有自動化程度高的優勢，在運行中如果遇到故障可以立即自停，具有自動保護功能，且能耗低、水利用率高。

　　結束語：綜上所述，這樣的超純水設備因其性能優勢突出且占地面積小，可以為企業節省大量的空間得到了許多半導體行業的歡迎。該設備在電子芯片、集成電路及封裝、光伏發電、航空航天等領域中也是多有應用。