等離子清洗機原理：通過對工藝氣體施加電場使之電離化成為等離子體。等離子體的“活性”組成包括：離子、電子、原子、自由 活性基團、激發態的核素（亞穩態）、光子等。等離子處理就是通過利用這些活性組分的性質來氧化、還原、裂解、交聯和聚合等物理和化學反應改變樣品表面性質，從而優化材料表面性能，實現清潔、改性、刻蝕等目的。

      在等離子清洗機中，攝像頭模組被放置在清洗室中，通過等離子體的作用，將模組表面的污垢和有機物分解成無害的氣體和水。由于等離子體的高能量，清洗效果非常明顯，可以將模組表面的污垢和有機物去除，使其恢復原有的光潔度和透明度。同時，等離子清洗機的清洗過程非常快速，可以在短時間內完成清洗，提高生產效率。

      除了普通的等離子清洗機外，還有一種寬幅等離子清洗機，可以同時清洗多個攝像頭模組。寬幅等離子清洗機采用連續清洗的方式，可以在一次清洗中同時清洗多個模組，提高了清洗效率和生產效率。同時，寬幅等離子清洗機還具有自動化控制系統，可以實現全自動清洗，減少人工干預，提高清洗質量和穩定性。