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雙光子無掩膜光刻系統利用高能激光在非線性光學晶體中產生的雙光子效應，實現對材料表面的高精度、無掩膜的光刻。這一過程中，激光束通過光學系統聚焦到光敏材料上，當激光強度足夠高時，光敏材料中的分子會同時吸收兩個光子而發生化學反應，從而在材料表面形成特定的圖案。
雙光子無掩膜光刻系統主要由以下幾個部分組成：
激光器：作為系統的核心部件，激光器發出高能激光束，其波長和功率需根據雙光子效應的要求進行選擇。
光學系統：包括透鏡、分束器、反射鏡等光學元件，用于將激光束聚焦到光敏材料上，并形成所需的圖案。
工作臺：用于放置和固定光敏材料，確保在光刻過程中的穩定性。
控制系統：實現整個光刻過程的自動化控制，包括激光器的開關、光學系統的調整、工作臺的移動等。
具有以下技術特點：
高分辨率：雙光子無掩膜光刻系統能夠實現亞微米級甚至納米級的分辨率，適用于制備高精度的微納結構。
高效率：由于雙光子效應具有高度的空間選擇性，因此可以在短時間內完成大面積的光刻加工。
低成本：相較于傳統的掩膜光刻技術，雙光子無掩膜光刻系統無需制作掩膜，降低了生產成本。
靈活性：系統可以方便地調整光刻圖案和尺寸，適用于不同材料和不同應用的需求。
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