鍍膜科技日新月異，對于鍍膜工程師來說，如何根據不同的鍍膜工藝選擇*的晶振片確實不易。下面建議供大家參考：

1）鍍低應力膜料時，選擇鍍金晶振片

    zui常見的鍍膜是鍍Al、Au、Ag、Cu，這些膜層幾乎沒有應力，在室溫下鍍膜即可。膜層較軟，易劃傷，但不會裂開或對基底產生負作用。建議使用鍍金晶振片用于上述鍍膜，經驗證明，可以在鍍金晶振片鍍60000埃金和50000埃銀的厚度。

2）使用鍍銀或銀鋁合金鍍高應力膜層

    Ni、Cr、Mo、Zr、Ni-Cr、Ti、不銹鋼這些材料容易產生高應力，膜層容易從晶體基片上剝落或裂開，以致出現速率的突然跳躍或一系列速率的突然不規則正負變動。有時，這些情況可以容忍，但在一些情況下，會對蒸發源的功率控制有不良作用。

3）使用銀鋁合金晶振片鍍介質光學膜

    MgF₂、SiO₂、Al₂O₃、TiO₂膜料由于良好的光學透明區域或折射率特性，被廣泛用于光學鍍膜，但這些膜料也是zui難監控的，只有基底溫度大于200度時，這些膜層才會與基底有非常良好的結合力，所以當這些膜料鍍在水冷的基底晶振片上，在膜層凝結過程會產生巨大的應力，容易使晶振片在1000埃以內就回失效。

    這時候，選用合金晶振片將是的選擇，將大大減少調頻機會。實驗室顯示，使用合金晶振片監視氟化鎂，有效壽命比鍍金的長100%。如果把冷卻水的溫度從20度提高到50度，晶振片的壽命更可以再延長一倍。