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在微納制造領域，光刻技術一直扮演著至關重要的角色。傳統的掩膜光刻技術雖然已經取得了顯著成就，但在高精度制造方面仍存在局限性。隨著科技的不斷發展，無掩膜光刻系統應運而生，為高精度光刻帶來了新的突破。
無掩膜光刻系統摒棄了傳統的掩膜，利用數字微鏡器件（DMD）或空間光調制器（SLM）等元件，通過計算機控制直接生成所需的圖案。這種技術不僅簡化了光刻流程，降低了制造成本，而且避免了掩膜制造和處理的復雜性和誤差。
與傳統的掩膜光刻技術相比，無掩膜光刻系統具有顯著的優勢。首先，由于無需制作和更換掩膜，該技術大幅縮短了制造周期，提高了生產效率。其次，無掩膜光刻系統能夠實現高精度的圖案生成，有效降低了誤差和缺陷，提高了產品的質量和性能。此外，該技術還具有高度的靈活性和可定制性，能夠快速適應不同的制造需求和設計變化。
然而，無掩膜光刻系統也面臨著一些挑戰。首先，數字元件的分辨率限制了系統的制造精度。盡管目前已有高分辨率的DMD和SLM可供使用，但進一步提高分辨率仍是亟待解決的問題。其次，該技術的制造成本相對較高，限制了其在某些領域的應用。為了降低成本和提高普及度，需要進一步研發成本效益更高的材料和技術。
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