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雙光子無掩膜光刻的原理介紹

來源:納糯三維科技(上海)有限公司Nanoscribe   2023年08月11日 13:28  
  一、受益于雙光子灰度光刻對體素的微調,該系統在表面微結構的制作上可達到超光滑,同時保持高精度的形狀控制。從納米到介觀尺度原型制作:同類中先的3D打印系統。可打印任何形狀,已被工業界認可的QuantumX平臺的二代加工系統。
 
  二、原理作用過程:
 
  (1)通過系統集成觸控屏控制打印文件來大大提高實用性。通過系統自帶的nanoConnectX軟件來進行打印文件的遠程監控及多用戶的使用配置,實現推動工業標準化及基于晶圓批量效率生產。
 
  (2)不僅是應用于生物醫學、微光學、MEMS、微流道、表面工程學及其他很多領域中器件的快速原型制作的理想工具,同時也成為基于晶圓的小結構單元的批量生產的簡易工具。
 
  三、特點與優勢:
 
  1.自動化自校準路徑保證的高精度激光能量控制及定位
 
  2.可達6英寸基片和硅片的廣泛選擇
 
  3.工業化批量生產:200個標準介觀尺度結構通宵產量
 
  4.保證實用性和體驗感的觸控屏和遠程控制功能
 
  5.快速原型制作,高精度,高設計自由度,簡易明了的工作流程
 
  6.工業驗證的晶圓級批量生產

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