為了研究植物生長、產(chǎn)量和品質(zhì)與光能利用的關(guān)系，需要調(diào)查植物冠層中的光能資源，測量植物冠層對光的截獲量。  在不成熟的過去，研究人員很難對技術(shù)進行測量和分析，這往往需要大量的時間和精力。  如今，隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，冠層分析儀已經(jīng)被研究人員很好的使用。  從實際應(yīng)用來看，該儀器仍然可以發(fā)揮很大的作用。  

首先，我們來說說直接測量和間接測量是如何進行的。  直接測量是測量所有葉片的葉面積，然后計算LAI。因為要測量的葉片都要剪掉，所以大部分都是破壞性測量，或者至少會干擾冠層和葉角的分布，從而影響數(shù)據(jù)的質(zhì)量。直接測量費時費力。  間接測量是利用冠層結(jié)構(gòu)與冠層內(nèi)輻射和環(huán)境相互作用的耦合關(guān)系，通過冠層分析儀測量植物冠層的相關(guān)數(shù)據(jù)，通過植物冠層的傳輸模型推斷LAI。  

冠層分析儀通過處理圖像數(shù)據(jù)文件，如葉面積指數(shù)、光照間隙、間隙分布等，獲得冠層結(jié)構(gòu)。  通過分析輻射數(shù)據(jù)的相關(guān)信息，可以計算出冠層截獲的PAR和冠層以下的輻射水平。  因此，與直接測量法相比，利用冠層分析儀測量冠層數(shù)據(jù)可以避免直接測量法帶來的大規(guī)模破壞植被的缺點。而且使用儀器進行測量操作具有方便、快捷、不受時間限制、獲取數(shù)據(jù)量大等優(yōu)點，非常適合現(xiàn)代農(nóng)業(yè)科研。目前，冠層分析儀廣泛應(yīng)用于農(nóng)業(yè)、園藝、林業(yè)的栽培、育種和植物群體比較與發(fā)展的研究和教學(xué)中，并在實際應(yīng)用中發(fā)揮了作用。