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石墨鍍碳化硅涂層設(shè)備主要有哪些產(chǎn)品應(yīng)用？
石墨鍍碳化硅涂層具有耐高溫、抗氧化、純度高、耐酸堿、耐有機(jī)試劑等特點(diǎn)，理化性能穩(wěn)定。與高純石墨相比，高純石墨在400℃開始發(fā)生強(qiáng)烈氧化。即使溫度不高，長(zhǎng)期使用也會(huì)因氧化而去除粉末，從而附著在工件和工作臺(tái)上或污染使用環(huán)境。因此，碳化硅包覆石墨基作為一種新型耗材，在MOVCD設(shè)備、粉末燒結(jié)等工藝中逐漸取代了高純石墨基。
石墨鍍碳化硅涂層設(shè)備在高溫條件下從特殊氣體中釋放出硅，使硅與碳直接結(jié)合，以特定形狀包裹石墨基體，形成SiC保護(hù)層。形成的SiC與石墨基體結(jié)合牢固，賦予石墨基體特殊的性能，從而使石墨基體表面致密、無孔、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化。
1、高溫抗氧化性：抗氧化性。當(dāng)溫度達(dá)到1600℃時(shí)，抗氧化性仍然很好。
2、高純度：采用化學(xué)氣相沉積法在高溫氯化下制備。
3、耐侵蝕：硬度高，表面致密，顆粒細(xì)。
4、耐腐蝕：耐酸、堿、鹽和有機(jī)試劑。
石墨鍍碳化硅涂層設(shè)備主要應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)的許多生產(chǎn)環(huán)節(jié)。近年來，受產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移、國(guó)內(nèi)技術(shù)進(jìn)步、政策支持、終端產(chǎn)業(yè)發(fā)展等因素影響，我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)呈現(xiàn)良好發(fā)展態(tài)勢(shì)，為碳化硅包覆石墨盤需求增長(zhǎng)提供了有力支撐。可以預(yù)見，碳化硅涂層石墨盤及其相關(guān)產(chǎn)業(yè)未來的發(fā)展環(huán)境將長(zhǎng)期向好。
1、MOCVD設(shè)備中用于GaN外延生長(zhǎng)的石墨基底涂層。
2、用于單晶硅外延生長(zhǎng)的石墨基底涂層，包括平面基底、圓形基底和三維基底。
3、用于單晶硅器件燒結(jié)爐的石墨底盤涂層。
4、石墨加熱器表面涂層（平面加熱器、圓形加熱器、圓柱形加熱器等）。
5、用于各種氧化物隧道窯燒結(jié)的石墨匣缽?fù)繉印?/div>
6、用于粉末冶金連續(xù)燒結(jié)的石墨基涂層。
7、SiC涂層采用光學(xué)技術(shù)拋光，用于空間鏡。
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