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氧化硅拋光液在漿液中呈現(xiàn)穩(wěn)定的空間立體網(wǎng)絡，不觸變、不凝膠，且金屬離子含量控制的非常好，具有高穩(wěn)定性能，懸浮性能好，不變稠，不析出晶體，不腐蝕設備、粘度小，顆粒細而均勻，不會有劃痕，使用后容易清洗等優(yōu)點；適合用于各種鋁寶石拋光，鋯寶石拋光，金屬鏡面拋光，如不銹鋼鏡面拋光，鋁材鏡面拋光，手機外殼鏡面拋光，光學玻璃拋光，液晶顯示屏拋光，半導體硅片、不銹鋼、鋁合金、藍寶石等的表面拋光。
化學機械拋光(CMP)技術是目前各類顯示屏、手機部件、藍寶石、不銹鋼、單晶硅片等領域使用廣泛的表面超準確加工技術，研磨拋光材料是化學機械拋光過程中不可卻少的一種耗材，常用的研拋材料有氧化鈰、氧化硅、氧化鋁和金剛石(鉆石)。氧化鈰主要用于玻璃晶體等拋光，金剛石與氧化鋁主要用于高硬度晶體的拋光，而納米二氧化硅拋光主要用于許多材料表面準確拋光。這幾種材料往往可以搭配使用，組成研磨-拋光的理想材料。
氧化硅拋光液可廣泛應用于下面這些領域：
1、可用于微晶玻璃的表面拋光加工中。
2、用于硅片的粗拋和精拋以及IC加工過程，適用于大規(guī)模集成電路多層化薄膜的平坦化加工。
3、用于晶圓的后道CMP清洗等半導體器件的加工過程、平面顯示器、多晶化模組、微電機系統(tǒng)、光導攝像管等的加工過程。
4、廣泛用于CMP化學機械拋光，如：硅片、化合物晶體、準確光學器件、硬盤盤片、寶石、大理石等納米級及亞納米級拋光加工。
5、氧化硅拋光液可以作為一種添加劑，也可應用于水性高耐候石材保護液、水性膠粘劑與高耐候外墻涂料的添加劑等。
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