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金剛石拋光液包括聚晶、單晶和納米3種不同類型的拋光液。它是由優良的金剛石微粉、復合分散劑和分散介質組成，配方多樣化，對應不同的研拋過程和工件，適用性強。產品分散性好、粒度均勻、規格齊全、質量穩定，廣泛用于硬質材料的研磨和拋光。
本產品是利用聚晶金剛石的特性，在研磨拋光過程中保持高切削效率的同時不易對工件產生劃傷。主要用于蘭寶石襯底、光學晶體、硬質玻璃和晶體、超硬陶瓷和合金、磁頭、硬盤、芯片等領域的研磨和拋光。
金剛石拋光液的正確使用方法是什么呢？
1、將水基納米金剛石用于硅片拋光。用海藻酸鈉、羧甲基纖維素鈉、活性劑以及去離子水配制拋光液。對超分散納米金剛石拋光硅片進行了研討，并對干法拋光和拋光波濕法拋光進行了比照。干法拋光液使硅片粗糙度Ra從107nrn降到4nm。運用水基納米拋光液濕法拋光，拋光效率更高，并且硅片的粗糙度更小，到達4nrn。
2、一種水基納米拋光液經過去離子水中加入納米金剛石、改性劑、分散劑、超分散劑、pH調理劑、潤濕劑、具有化學作用的添加劑經過超聲攪拌將納米金剛石分散成20~100nm的小體，制成拋光液。用于各種光電子晶體、計算機硬盤基片、光學元器件及銅銜接的半導體集成電路等的超精細拋光。用于硅片拋光，外表粗糙度達0.214nm。
3、一種用于存儲器硬盤磁頭反面研磨的研磨液制造法。包括十到十三個碳的烷羥礦物油、十五個碳的油性劑、金剛石單晶微粉、抗氧化防腐劑、非離子活性劑、消泡劑和抗靜電劑，將該拋光劑用于磁頭反面拋光。研磨后外表劃痕、外表粗糙度是0.3~0.4nm。
4、納米拋光液及其制造法的創造以輕質白油為介質，參加非離子活性劑、抗靜電劑、凈洗劑以及pH調理劑制備了波動性較好的納米拋光液。除了用于計算機磁頭之外，還可以用于光學器件和陶瓷等高精度研磨和拋光之用。
5、對中等粒度納米金剛石拋光液用于磁頭拋光工藝進行了研討。納米金剛石顆粒越細，拋光粗糙度越小、但是二者并不構成復雜的線性關系。拋光液的分散波動性很大水平上影響了外表劃痕。拋光液的波動分散是很重要的。制備一種水性納米拋光液，經過三乙醇胺調整pH值后，用來拋光氧化鋁工件，這種拋光液使得被加工工件外表更容易清洗。
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