四甲基氫氧化銨（TMAH）是一種廣泛用于半導體光刻工藝和液晶顯示器生產中形成酸性光阻的基本溶劑，因此對TMAH純度的檢測變得越來越重要。由于具有快速測定各種工藝化學品中超痕量濃度待測元素的能力，電感耦合等離子體質譜儀（ICP-MS）已成為了質量控制*的分析工具。
然而，解決由基體帶來的多原子干擾和由于含有碳造成的基體抑制效應是非常重要的。本應用報告證明了NexION 300S ICP-MS去除干擾，從而在使用高溫等離子體的條件下通過一次分析就能夠對TMAH中全部痕量水平的雜質元素進行測定的能力。
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