PlasmaPro 80 ICP 參考價：面議
PlasmaPro 80 ICP是一種結構緊湊、小型且使用方便的直開式系統，可提供多種刻蝕解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝質量。直開式設計允許快...
PlasmaPro 100 Polaris 參考價：面議
單晶圓刻蝕技術的進展憑借在蝕刻GaN，SiC和藍寶石等材料方面的豐富經驗，我們的技術既能夠滿足性價比的要求、又能使器件的性能得到更優化。
PlasmaPro 100 Cobra 參考價：面議
PlasmaPro 100系列刻蝕和沉積設備可安裝多種襯底電極，能夠在很寬的溫度范圍內進行工藝，具有200mm單晶圓和多晶圓批處理能力，該工藝模塊可提供具有高度...
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