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光學(xué)加工中的鍍膜工藝
閱讀：1610 發(fā)布時(shí)間：2021-1-21
光學(xué)加工中的鍍膜工藝
我們今天介紹離子輔助沉積技術(shù)在光學(xué)鍍膜的具體工藝。在鍍膜前先要用高能量的離子束對(duì)基片轟擊，到達(dá)基片表面的離子能量以不損傷基片表面粗糙度為大值，以凈化其表面，使表面沾污的碳?xì)浠衔锓纸獬ィ瑫r(shí)使基底表面溫度升高，提供活化表面以利于薄膜成核。在鍍膜過程中，再用適當(dāng)?shù)暮赡茈x子轟擊正在生長(zhǎng)的薄膜，改變成膜條件。由于外來離子對(duì)凝聚中粒子的動(dòng)量傳遞，使得膜料粒子在基底表面的遷移速率增加，并因此增加了粒子的凝結(jié)速率及生長(zhǎng)速率，也加速了粒子的接合，導(dǎo)致薄膜的堆積密度加大，改善了薄膜的光機(jī)性能，大幅度的提高了膜層在基底上的附著力。
不同的離子源控制的工藝參數(shù)不同，其本質(zhì)是相同的。都是通過不同的控制參數(shù)來達(dá)到終控制離子源的離子能量和束流密度的目的。離子能量與束流密度從不同角度反映了對(duì)薄膜傳遞能量的大小，其不同之處在于離子能量代表單個(gè)離子所具有的能量，而束流密度代表單位面積內(nèi)離子的個(gè)數(shù)，多個(gè)離子的碰撞有累加效應(yīng)，同樣會(huì)傳遞給薄膜原子能量。在一定范圍內(nèi)，薄膜折射率隨離子能量和束流密度的增加而增加，消光系數(shù)則隨離子能量和束流密度的增加出現(xiàn)減小-增大-再減小-再增大的變換，變化量的值與波長(zhǎng)密切相關(guān)。
離子能量對(duì)薄膜的折射率影響較大，而束流密度對(duì)薄膜的消光系數(shù)影響較大。
上海卷柔新技術(shù)光電有限公司是一家專業(yè)研發(fā)生產(chǎn)光學(xué)儀器及其零配件 的高科技企業(yè)，公司成立２００５年，專業(yè)的光電鍍膜公司，公司產(chǎn)品主要涉及光學(xué)儀器及其零配件的研發(fā)和加工；光學(xué)透鏡、反射鏡、棱鏡等光學(xué)鍍膜產(chǎn)品的開發(fā)和生產(chǎn)，為客戶提供上等的產(chǎn)品和服務(wù)。采用德國(guó)薄膜制備工藝，形成了一套具有嚴(yán)格工藝標(biāo)準(zhǔn)的閉環(huán)式流程技術(shù)制備體系，能夠制備各種超高性能光學(xué)薄膜，包括紅外薄膜、增透膜，ARcoating,激光薄膜、特種薄膜、紫外薄膜、x射線薄膜，應(yīng)用領(lǐng)域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、醫(yī)用激光器、紅外制導(dǎo)、面部識(shí)別、VR/AR應(yīng)用,博物館，低反射櫥窗玻璃，畫框等