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合肥重光電子科技有限公司
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CG-920-半自動光刻機
  • CG-920-半自動光刻機
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貨物所在地:安徽合肥市

更新時間:2025-03-22 17:41:57

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產品概述:
應用于3D封裝、LED、微機電系統、化合物半導體、功率器件等領域
主要配置:自動對準、自動曝光、LED光源、機器視覺對準系統、高精度硅片承載臺、自動楔形誤差補償系統
LED 光源:3波長任意配置,支持更多應用場景;
高分辨率、高均勻性;使用壽命長,維護簡便:
機器視覺對準系統:頂部和底部雙模式對準,大視野、高精度;4種照明光可選,工藝適應性強; 手動、自動模式自由切換

技術參數

掩模版 、硅片    


硅片尺寸

8"/ 6"

硅片厚度

max.10 mm

掩模版尺寸

9" ×9"/ 7" ×7" (SEMI)

掩模版厚度

max.6.35 mm

曝光模式    


接觸方式

軟接觸、硬接觸、真空接觸

曝光間隙

0~1000 μm

間隙精度

1 μm

曝光強度

0 ~ ≥40mw/cm 2

曝光鏡頭    


光源類型

LED

曝光波長

365nm,405nm,

光強均勻性

≤4% 8" / ≤3% 6"

分辨率

真空接觸≤1um


硬接觸 ≤1.5μm


軟接觸≤2.2μm


間隙 ≤3.6μm

對 準 模 式


頂部對準

< ±1 μm

可選配底部對準

< ±2 μm

頂部對準調焦范圍

5 mm

底部對準調焦范圍

5 mm


運動范圍

X:±5mmY:±5mmθ :   ±5°

分辨率

0.04 μm

頂 部 對 準 鏡 頭  


移動范圍

6" 40~150mm


8" 40~200 mm

底部對準鏡頭


移動范圍

6" 40~150mm


8" 40~200 mm

用 戶 界 面


Windows 10

可存儲工藝菜單

場務需求  


真空< -0.8 kPa ; 氮氣> 0.5 Mpa ; 壓縮空氣: 0.6~0.8 Mpa

供 電 需 求


電壓: 230 V  ± 10%

頻率: 50~60 Hz

尺 寸 重 量  


長 ×寬 ×: 1200  × 1000 mm

高: 1973 mm重量 : ~ 400 kg




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