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單靶等離子濺射儀

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  • 單靶等離子濺射儀
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  • 型號 wi97944
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  • 廠商性質 代理商
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更新時間:2017-04-21 15:28:43瀏覽次數:1041

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產品簡介

產品名稱: 單靶等離子濺射儀 產品貨號: wi97944產 地: ***產

詳細介紹

單靶等離子濺射儀是一種已經通過CE認證的緊湊型等離子濺射儀。用于***、鉑、銦、銀等多種***屬的濺射鍍膜。樣品直徑可達50mm,鍍膜厚度可達300埃。特別適用于SEM樣品的鍍膜。本品包括真空泵和預置一個***靶。 主要特點: 單靶等離子濺射儀主要特點如下: 1. 配置有樣品濺射室真空表和濺射電流表,用以指示、監控儀器狀態; 2. 濺射電流調整控制器、微型真空氣閥。在工作時結合內部自動控制電路很容易控制真空室壓強、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體,獲得佳鍍膜效果; 3. 特殊設計的鐘罩邊緣橡膠密封圈,可保證長期使用不會出現影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊”現象; 4. 陶瓷密封高壓頭比通常采用橡膠密封的更經久耐用; 5. 根據電場中氣體電離特性,采用大容量樣品濺射真空室和相應面積濺射靶,使濺射鍍層更均勻純凈。 技術參數: 主要技術參數: 1、輸入電源:220V,總功率小于2000W(包括真空泵); 2、樣品室尺寸:直徑160mm,高度120mm; 3、樣品臺:直徑50mm,可以同時給8個SEM樣品鍍膜,樣品臺高度可調。大均勻鍍膜區域為直徑45mm; 4、氣氛控制:針閥控制氣體流量,已取得更好的鍍層效果; 5、外形尺寸:長400mmx寬300mmx高400mm; 6、凈重:約30公斤; 7、保質期和證書:1年保質期及CE認證證書。 靶材相關: *** – 常規SEM應用時使用普遍的靶材;濺射速度快且導電效果好。 銀 – 高導電性且具有高的二次電子發射率。濺射上去的銀易于去除,可使樣品成像后還原到其原來狀態。 鉑 – 在機械泵抽真空的濺射鍍膜系統中它的顆粒尺寸小,且具有優良的二次電子發射能力。 鈀 – 用于x射線能譜分析非常理想,因其譜線分布沖突相對較低。 ***/鈀合***(80:20%) - 通過限制沉積期間***顆粒的團聚,鈀可提高終分辨率。 標準配件:***靶1塊 可選配件:***、銦、銀、鉑等各種靶材

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