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FPD-PVD磁控濺鍍設備
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更新時間：2024-11-18 21:00:07

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簡要描述：FPD-PVD磁控濺鍍設備針對中小尺寸的需求開發串集的PVD 設備，擁有4個單獨的濺鍍腔體，讓客戶能任意搭配沉積的材料，同時保有彈性和具有選擇性的系統。

FPD-PVD磁控濺鍍設備

隨著LCD面板和製造所需玻璃的尺寸的增加，製造設備也隨著變得更大，需要越來越大的設備投資。SYSKEY針對中小尺寸的需求開發串集的PVD 設備，擁有4個單獨的濺鍍腔體，讓客戶能任意搭配沉積的材料，同時保有彈性和具有選擇性的系統。

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FPD-PVD磁控濺鍍設備

應用領域

  • TFT-LCD。

  • 太陽能電池。

  • 觸碰屏。

  • 氧化物、氮化物和金屬材料的研究。


配置和優點選件

  • 客製化基板尺寸為550 x 650 mm2(玻璃)。

  • 優異的薄膜均勻度小於±5％。

  • 穩定的溫度控制，可將基板加熱到400°C。

  • Cassette傳送站。

  • 基材電漿清潔。

  • OES、RGA或製程監控的額外備用

    端口。


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