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電位自動滴定儀原理滴定是一種分析方法,其中將已知濃度的試劑溶液施加到樣品上并測定反應試劑的體積。以前,將試劑滴入玻璃滴定管中,通過指示劑的顏色變化來確定終點。自動電位滴定儀自動分配試劑、確定終點、計算濃度!利用樣品中的待測物質與已知濃度的試劑之間的定量反應,通過滴下試劑并確定消耗的試劑量,可以測量樣品中含有多少待測物質。直到達到等值點為止。原理在手動分析中,指示劑用于通過顏色變化來檢測當量點(終點)。此外,滴定儀使用電極根據電位(pH)的變化來檢測等當點(終點)。用途化學工業[質量控制/檢查/測
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卡爾費休法的原理是什么爾費休法是基于卡爾費休反應中水和碘以1:1的摩爾比進行定量反應的原理。脫水溶劑的主要成分是醇(ROH)、二氧化硫(SO2)、堿(RN)。醇和二氧化硫在脫水溶劑中反應,產生烷基亞硫酸根陰離子(SO3R-)。該烷基亞硫酸根陰離子以[RNH]SO3R的形式存在,在脫水溶劑中被堿中和。滴定反應如下所示。[RNH]SO3R被碘氧化時會消耗水。由于該反應是定量進行的,因此可以根據消耗的碘量來確定水的量。干擾反應例如,酮和醛與甲醇反應生成水。通過使用脫水酮溶劑和不含甲醇的陽極電解液可以抑
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什么是離子色譜法?離子色譜被定位為一種測量離子物質成分的液相色譜。該方法使用洗脫液作為流動相、離子交換劑作為固定相,在填充柱中分離樣品溶液中的離子物質。電導率檢測器通常用于檢測離子物種,但根據目的,也使用紫外-可見吸收檢測器和電化學檢測器以及液相色譜法。離子色譜法的應用范圍很廣,包括環境水和廢水的質量控制,以及食品領域的大氣環境測量和質量控制,因為它可以同時進行多組分分析,并且不易受環境影響。它是一種在許多領域中使用的分析方法。此外,測量的目標成分包括無機陽離子和陰離子、低級胺、重金屬離子、有機
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東亞電波TOA-DKK 面板式pH/ORP控制器 HBM-100B (pH)
東亞電波TOA-DKK面板式pH/ORP控制器HBM-100B(pH)測量項目酸堿度氧化還原電位緊湊型DIN96尺寸面板安裝pH/ORP控制器自動判定電極特性的好壞顯示屏具有LED背光測量范圍pH計(HBM-100B):pH-1至pH15ORP計(HBM-102B):-2000至+2000mV優勢品牌:CCS晰寫速SEN日森、EYE巖崎、REVOX萊寶克斯、SERIC索萊克SONIC索尼克、SANKO三高、NEWKON新光、HAYASHI林時計、NPM日脈NS日本科學、DRY-CABI東利繁、T -
NiF過濾器株式會社---電鍍工藝整體解決方案我們將介紹日本過濾器產品的主要領域和解決各種電鍍工藝問題的產品使用示例。在要求高質量的電鍍工藝中,電鍍化學品和清洗水的凈化過濾至關重要。NipponFilter自成立以來一直致力于生產精密過濾機、過濾器外殼和各種濾芯,為每種應用提供最佳過濾效果。根據處理量,我們還提供一系列提高清洗水精度的純水生產設備,以及工藝過程中排放的電鍍廢水的回收設備。此外,我們還擁有膜分離設備,可以在最終排放前使用我們自己的精密過濾膜可靠地處理含重金屬廢水,并為電鍍過程中的所
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什么是半導體晶圓?半導體晶圓是一種非常薄的平板,通常在半導體制造過程中由單晶硅制成。硅片是極薄而小的板材,量產的硅片直徑一般為8英寸(200毫米)或12英寸(300毫米)。順便說一句,4英寸(100毫米)或更小的直徑專門用于研究目的。我們的薄膜成型設備基本上都是4英寸(100毫米)。半導體晶圓在現代電子設備和信息技術中發揮著至關重要的作用。這些薄盤狀基板是半導體器件制造的基礎,也是構建先進電子電路的基礎。為什么我們需要半導體晶圓半導體集成電路(IC)與晶圓密切相關。半導體集成電路將許多元件集成到
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什么是SiC半導體?SiC(碳化硅)是一種由硅和碳制成的化合物半導體,由于其優異的性能在功率器件領域受到關注。Si是我們常見的半導體主流材料,但SiC有望成為性能超越Si的下一代半導體材料。與硅類似,SiC可以形成柵氧化膜(SiO2)和p型層。因此,可以直接應用在硅中開發的MOSFET(金屬氧化物半導體場效應晶體管)的結構。這加速了SiC功率器件的發展,并使其在短時間內實現商業化成為可能。SiC半導體的特性和優點功率半導體的性能由多種物理特性的平衡決定,包括擊穿場強、遷移率和導熱率。“Varig
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什么是阻抗匹配?阻抗匹配是指使電路中發送和接收信號的設備的電阻盡可能相似。簡單來說,就是為了使電力流通順暢而進行的調整工作。阻抗是一個電氣術語,指的是交流電路中的電阻分量。直流電路中的電阻稱為電阻(R),但在交流電路中,除了電阻之外,電感(線圈)和電容器也充當電阻。所有這些統稱為阻抗(Z)。在處理高頻信號時,阻抗匹配尤其重要。高頻信號即使對微小的變化也會做出敏感的反應,因此即使阻抗的微小偏差也會產生很大的影響。如果我們將阻抗匹配與水流進行比較......水流電流電流軟管電路軟管厚度阻抗如果連接不