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德國Hellma氟化鈣晶體CaF2光學材料
Hellma Materials CaF2多年來一直被用作半導體生產微光刻的光學關鍵材料。
CaF2 是投影和照明光學中準分子激光光學器件的行業標準材料。CaF2 獨*的光學特性可實現各種高級應用。
技術優勢：
Hellma Materials 的 Lithotec® CaF2 具有獨*的光學特性：
從深紫外到紅外（130nm至8μm）的高寬帶透射率
低折射率 （nd = 1.43384）
低光譜色散 （vd = 95.23）
準分子激光光學器件（157nm、193nm、248nm）具有出色的激光耐久性
對高能顆粒和輻射的合格抵抗力
直徑可達420mm
應用領域：
紅外光學元件
用于天文儀器的光學元件
天基光學器件
顯微鏡光學元件
光譜光學
紫外光學
激光窗口
準分子激光光學
微光刻光學
沈陽漢達森YYDS曹
Hellma Materials和CVD陶瓷是高品質晶體和陶瓷光學材料的領*制造商，包括微光刻、光學、激光技術和輻射檢測。
類型：
氟化鈣晶體
氟化鋇晶體
激光晶體
閃爍晶體
CVD Zinc Sulfide® and Cleartran®
CVD Zinc Selenide®
氟化鈣晶體具有以下特點：
具有良好的透明性：氟化鈣晶體在紫外至紅外波段均有較好的透明性，是一種優秀的光學材料。
具有高的折射率：氟化鈣晶體的折射率較高，約為1.4，適用于制作光學透鏡等光學元件。
具有較高的熱穩定性：氟化鈣晶體的熱膨脹系數較小，熱穩定性較高，適合在高溫環境下使用。
具有較高的化學穩定性：氟化鈣晶體化學性質穩定，不易被酸、堿等化學物質侵蝕。
具有較高的機械強度：氟化鈣晶體硬度較高，具有較好的機械強度，不易破裂或變形。
德國Hellma氟化鈣晶體CaF2光學材料
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