磁控濺射是物理氣相沉積的一種。實現了高速、低溫、低損傷。是在低氣壓下進行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。其在掃描電鏡中應用十分廣泛，通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現象，并提高觀測效率，另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳，實現不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。
磁控離子濺射儀主要應用在哪些領域呢？
1、在光學領域：中頻閉場非平衡磁控濺射技術也應用于光學薄膜（如減反射膜）、低輻射玻璃和透明導電玻璃。
2、在裝飾領域的應用，如各種全反射膜和半透明膜，如手機外殼、鼠標等。
3、作為一種非熱涂層技術，應用于微電子領域。各種功能膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能的膜。例如，在低溫下沉積氮化硅增透膜以提高太陽能電池的光電轉換效率。
化學氣相沉積（CVD）難以生長，不適合材料薄膜沉積，并且可以獲得大面積非常均勻的薄膜。
5、在高溫超導薄膜、鐵電薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發光材料、太陽能電池和記憶合金薄膜的研究中發揮著重要作用。
6、在機械加工行業，表面功能膜、超硬膜和自潤滑膜的表面沉積技術自誕生以來取得了長足進步，可有效提高表面硬度、復合韌性、耐磨性和高溫化學穩定性，從而大大提高涂層產品的使用壽命。
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