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如何操作離子濺射儀的經驗介紹
閱讀：327 發布時間：2023-2-16
離子濺射儀為掃描電鏡用戶在制樣過程中提供了更廣泛的選擇，以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。在結構設計及人機界面方面更加注重人性，簡單智能。濺射率是描述濺射特性的一個最重要物理參量。它表示正離子轟擊靶陰極時，平均每個正離子能從陰極上打出的原子數。又稱濺射產額或濺射系數，常用S表示。
1、一般工作距離可調，距離越近，濺射速度越快，但熱損傷會增加。
2、離子流的大小通過控制真空壓力實現，真空度越低，I越大，濺射速度越快，原子結晶晶粒越粗，電子轟擊樣品（陽極）產生的熱量越高；真空度越高,I越小，濺射速度越慢，原子結晶晶粒越細小，電子轟擊樣品產生的熱量小。
3、加速電壓為固定,也有可調的，加速電壓越高，對樣品熱損傷越大。一般使用金屬靶材的正比區域。
4、有些熱敏樣品，需要對樣品區進行冷卻，水冷或者帕爾貼冷卻；也可以采用磁控裝置，像電磁透鏡一樣把電子偏離樣品。經過這樣的改造，當然會增加很高的成本。可以在石蠟表面濺射一層金屬，而沒有任何損傷！
5、真空中的雜質越多，鍍膜質量越差。一般黃金比較穩定，可以采用空氣作為等離子氣源，而其他很多靶材則需要惰性氣體為好。
6、氣體原子序數越高，動量越大，濺射越快，但晶粒會較粗，連續成膜的膜層較厚。
7、保持真空室的潔凈對高質量的鍍膜有很大好處。
8、不要讓機械真空泵長期保持極限真空，否則容易反油。