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能譜分析的基本原理

 

    從電子槍中發射出高能電子束撞擊樣品表面，與原子的內層電子發生非彈性散射作用時，使原子發生電離，從而使原子失去一個內層電子而變成離子，并在該電子層對應位置產生一個空穴，原子為了恢復到穩定態，較外層的電子就會填補到這個空穴，在填補過程中同時會產生具有特征能量的 X 射線，探測器接收到這些特征 X 射線后，經過分析處理轉換最終得到譜圖和分析數據輸出。

    當高能入射電子將原子的 K 層電子撞擊出來時同時會形成一個空穴，原子為了恢復到穩定態，較外層的電子便會填充到 K 層的空穴中。如果是 L 層的電子填充 K 層的空穴，在此過程中會發射出 Kα 的 X 射線；如果是 M 層的電子填充 K 層的空穴，在此過程中會發射出 Kβ 的 X 射線；當入射電子將原子的 L 層電子撞擊出來后，原子為了恢復到穩態，這時位于 L 層以外的電子就會填補到 L 層上的空穴，若 M 層電子填補到 L 層，則會發射出 Lα  的 X 射線。

    布魯克QUANTAX 能譜儀結合了較好的能量分辨率和 30 毫米更大的固體角度®活動區域芯片。這使得探測器對希望在EDS應用的整個譜圖中使用探測器的分析中非常有吸引力，從輕元素分析到快速面掃描Mapping，以及EDS和EBSD測量的結合。X-Flash硅漂移探測器(SDD)與頂級的Hybrid 脈沖處理技術相結合能獲得較佳的能量分辨率和比常規Si(Li)探測器快十倍的測量速度。 

 

    布魯克QUANTAX 能譜儀配有界面友好、功能強大的ESPRIT軟件。該軟件標配中、英文界面。應用該軟件可進行無標樣定量分析，和有標準定量分析，或二種方法結合使用。另外，還可進行點、線、面分析，線掃描，面分布，超級面分布，相分析，顆粒分析，鋼鐵分析，槍擊殘留物分析等等。