Hellma  CVD 硒化鋅®紅外激光器用光學材料

化學氣相沉積 CVD 硒化鋅®由于其在 10.6 µm 波長處的體吸收率較低，因此成為高功率 CO 2激光器中光學元件的首要選擇材料。其折射率均勻性和均勻性提供了出色的光學性能，可用作高分辨率前視 (FLIR) 熱成像設備中的保護窗或光學元件。

這種材料還可用作醫(yī)療和工業(yè)應用（例如測溫和光譜學）中的小窗口和透鏡。

CVD 硒化鋅®具有化學惰性、不吸濕、高純度、理論上致密且易于加工。它由于吸收和散射而造成的體積損失極低，具有很高的耐熱沖擊性，并且在幾乎所有環(huán)境中都很穩(wěn)定。定制直徑、矩形、CNC 成型毛坯、生成透鏡毛坯、棱鏡和近凈形狀圓頂可根據(jù)您的規(guī)格制造。

優(yōu)點

出色的紅外透過率（高達 20μm）

化學惰性

對熱和環(huán)境影響具有高抵抗力

不吸濕

易于機械加工

光學特性

10% 傳輸限制 (t=6mm)：0.5µm – 22µm

折射率不均勻性 (Dn/n)：<3ppm @633nm

熱性能

導熱系數(shù) [JK-1m-1s-1] @298K：18.0 

熱容量 [Jg-1K-1] @298K：0.339

物理特性

晶體結(jié)構(gòu)：立方晶粒

尺寸：50-70µm 

密度 [g cm-3] @298K：5.27 

化學純度 [%]：99.9996

Hellma  CVD 硒化鋅®紅外激光器用光學材料