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產品簡介
BMF nanoArch® P150是科研級3D打印系統，擁有25μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。
詳細介紹
BMF nanoArch® P150 系統簡介
nanoArch P150是可以實現實現高精度微尺度3D打印的設備系統，它采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術。該技術使用高精密紫外光刻投影系統，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數字模型直接加工三維復雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術具備成型效率高、打印精度高等突出優勢，被認為是目前有前景的微納加工技術之一。
科研級3D打印系統
nanoArch® P150是科研級3D打印系統，擁有25μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。
BMF nanoArch® P150 系統性能：
| 光源 UV-LED(405nm) | 打印材料 光敏樹脂 | 光學精度 25μm |
| XY打印精度 50~200μm | 打印層厚 10~50μm | 打印樣品尺寸 48mm(L)×27mm(W)×50mm(H) |
| 打印文件格式 STL（單材） | 系統外形尺寸 530mm(L)×540mm(W)×700mm(H) | 重量 300kg |
| 電氣要求 200~240V AC,50/60HZ,2KW | 其他要求 部分工藝可選配加速模塊及涂層模塊 | 設備功率 2000W |
打印材料
通用型
丙烯酸類光敏樹脂，比如HDDA，PEGDA等。
個性化
高強度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂、生物醫用樹脂等。
系統特點
*的供料系統和涂層技術
具有高精度微尺度多材料的打印能力
微尺度大幅面的打印能力
光學監控系統，自動對焦功能
優良的光源穩定性
配備完善的樣品后處理組件 包括抽真空及紫外后固化
應用案例
