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產(chǎn)品簡介
GRAND-EOS超光譜相機將高光譜顯微鏡系統(tǒng)與高光譜寬視野成像平臺相結(jié)合，可以訪問具有VNIR（400-100 nm）和SWIR（900-1700 nm）光譜范圍的微觀和宏觀形態(tài)。
詳細介紹
GRAND-EOS超光譜相機利用Photon等基于體積布拉格光柵（VBG）的過濾技術(shù)。該技術(shù)是高光譜成像的理想選擇。 GRAND-EOS將高光譜顯微鏡系統(tǒng)與高光譜寬視野成像平臺相結(jié)合，可以訪問具有VNIR（400-100 nm）和SWIR（900-1700 nm）光譜范圍的微觀和宏觀形態(tài)。微型和寬視野兩種平臺均設(shè)計用于發(fā)光（光致發(fā)光或電致發(fā)光）和反射率測量，并且可以容納寬帶或單色光源。
594/5000 我們的過濾技術(shù)可以快速采集光譜解析的高分辨率圖像。 基于色散光譜儀的推掃式掃帚（線掃描）系統(tǒng)一次獲取一條線，而基于VBG的設(shè)備可以進行全局成像。 這意味著使用基于VBG的技術(shù)可以一次獲取完整的單色圖像，而不是逐行（或逐點）獲取圖像。 由于攝像機捕獲了視場中的整個區(qū)域，因此可以實時收集光譜和空間信息，并有可能記錄經(jīng)光譜解析的視頻。
GRAND-EOS超光譜相機特點：
- 連續(xù)可調(diào)
- 非分散技術(shù)
- 從400 nm到1620 nm的靈敏度
- 高性能CCD
- 電動對焦
- 控制和分析軟件
產(chǎn)品規(guī)格
| 性能 | ||
| 光譜通道 | 連續(xù)可調(diào) | |
| 光譜范圍 | 400-1620納米 | |
| 光譜分辨率 | 近紅外 <2.5納米（400-1000納米） | 短波紅外 <4納米（900-1620納米） |
| 空間分辨率 （以10倍顯微鏡為目標） | <7.5微米 | <12微??米 |
| 相機 | 前照式行間CCD相機 | |
| 樣品夾 | XY手動平移臺（行程50毫米） | |
| 波長調(diào)整速度 | 60毫秒穩(wěn)定時間，步長為2 nm | |
| 波長jue對精度 | <0.3納米 | |
| 可視化相機 | 單色或彩色XMP相機 | |
| 預(yù)處理 | 空間濾波，統(tǒng)計工具，頻譜 提取，數(shù)據(jù)歸一化， 頻譜校準 | |
| 超光譜數(shù)據(jù)格式 | HDF5， FITS | |
單圖像數(shù)據(jù)格式 | FITS，PNG，TIFF，JPG | |
操作系統(tǒng) 軟件 | Windows 7（64位） PHySpec™ 軟件 | |
| 宏成像模式 | ||
| 視場 | 從20 x 20毫米優(yōu)化到160 x 160毫米 | |
| 微成像模式 | ||
| 顯微鏡 | 直立或倒立 | |
| 目標 | 5X，10X（可 根據(jù)要求提供其他放大倍率） | |
| 照明 | 通過光導(dǎo)可提供寬帶和單色照明 | |
| 激發(fā) | 532 nm，660 nm，785 nm或808 nm激光器。 | |