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TMC光學平臺廣泛應用于光學檢測等領域
閱讀：1007 發(fā)布時間：2021-8-9
TMC光學平臺廣泛應用于光學、電子、精密機械制造、冶金、航天、航空、航海、精密化工和無損檢測等領域，以及其他機械行業(yè)的精密試驗儀器、設備振動隔離的關鍵裝置中，其動態(tài)力學特性的好壞直接影響實驗結果的準確性和可靠性。儀器設備的微振動直接影響精密儀器設備的測量精度。隨著精密隔振要求的提升，需要不斷提高光學平臺的振動隔離技術。
TMC光學平臺的特點：
·專門設計有水平減振機構，隔振基礎采用二層氣囊，在各個方向上都能提供優(yōu)異的減振性能；
·自動充氣，全部氣動執(zhí)行部件均采用*；
·調節(jié)穩(wěn)定、結構可靠、噪聲低；
·適用于振動頻率要求高的場合；
TMC光學平臺不僅需要高精度的機器設備來加工，更需要有高精度檢測手段與檢測儀器來保證，也只有的光學平臺才能保證高精度的科學實驗、研究的正常進行。外觀應美觀，各部位都應無影響安全的銳角及銳邊，更重要的是檢查孔口倒角是否均勻一致（螺孔旋入后應垂直平臺面），四邊及其倒角是否平直一致。如果臺面未經(jīng)過機械加工而是人工打磨出來的孔口倒角是大小不一致的，沿臺面四周邊用目測即可看出臺面倒角處是彎曲的。
1.試驗目的：檢測氣墊隔振垂直方向和水平固有頻率、振幅、振動速度、振動效果。
2.試驗方式：采用三點均布試驗。
3.試驗設備和試件：氣墊隔振器三只、質量載體一件。
4.測試儀器振動分析；位移傳感器2只；電腦；采集分析軟件。
5.試驗：采用多點敲擊法瀾可得固有頻率，振幅，振動速度，振動效果。