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目錄:江蘇雷博科學儀器有限公司>> 實驗室光刻機

實驗室光刻機
  • 實驗室光刻機
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  • 品牌
  • 型號
  • 廠商性質 生產商
  • 所在地 無錫市
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更新時間:2025-04-28 14:01:02瀏覽次數:1464評價

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實驗室光刻機參數:1.曝光面積:160mm*160mm。2.曝光分辨率:接觸式曝光0.8um-1um。3.對準精度:±1-1.5um。4.光源強度:35mW/cm2。5.UV光源:進口LED模塊。
  實驗室光刻機產品參數 :
 
  1.曝光面積:160mm*160mm
 
  2.曝光分辨率:接觸式曝光0.8um-1um
 
  3.對準精度:±1-1.5um
 
  4.光源強度:35mW/cm2
 
  5.UV光源:進口LED模塊
 
  6.曝光中心波長:365nm
 
  7.光源壽命:1萬小時,光源平行性:≤2°
 
  8.曝光分辨率:接觸式曝光0.8um-1um
 
  9.照度不均勻性:≤3%
 
  10.曝光設定:定時
 
  11.可執行曝光模式:真空接觸、硬接觸、壓力接觸、接近式
 
  12.間隙設定方式:數字設定曝光間隙0-1200um
 
  13.可調,可自動分離和消除間隙
 
  14.樣片、掩模版相對移動范圍:X:±5mm,Y:±5mm,0=±6°
 
  15.掩模版找平方式:球氣浮自動找平
 
  16.可支持掩模版尺寸:3"x3"、4"x4"、5"x5"、7"x7"各一件
 
  17.標配承片臺:2英寸、3英寸、4英寸、6英寸
 
  18.標準配件可兼容樣片厚度:0.1-5mm,其他尺寸可定制
 
  19.對準系統:光學+CCD,顯微倍數:放大倍率:150倍-720倍可調
 
  20.雙物鏡可調距離范圍:30mm-120mm

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