定制納米壓印模具 參考價(jià)：面議
客戶定制納米壓印模具可根據(jù)客戶需求，定制納米壓印原始模具。根據(jù)結(jié)構(gòu)尺寸和形貌，納米壓印原始模具的加工方法有電子束直寫、激光直寫、光刻、刻蝕、電鍍、機(jī)加工等。
納米壓印膠 參考價(jià)：面議
針對(duì)納米壓印膠需求，天仁微納可以為客戶推薦、對(duì)接國(guó)內(nèi)外多種壓印膠廠商，并提供工藝咨詢服務(wù)。
150mm&300mm 全自動(dòng)納米壓印光刻預(yù)處理設(shè)備 參考價(jià)：面議
GL150 PreNIL & GL300 PreNIL，150mm&300mm 全自動(dòng)納米壓印光刻預(yù)處理設(shè)備，Cassette to cassette機(jī)械手自動(dòng)...
納米壓印技術(shù)咨詢 參考價(jià)：面議
天仁微納技術(shù)團(tuán)隊(duì)具有20多年的納米壓印及配套的半導(dǎo)體加工經(jīng)驗(yàn)，可以為客戶提供各種納米壓印技術(shù)咨詢服務(wù)。
納米壓印工藝開發(fā) 參考價(jià)：面議
天仁微納可以根據(jù)客戶的產(chǎn)品需求，提供納米壓印工藝開發(fā)服務(wù)。配套天仁微納的設(shè)備及材料，為客戶提供全套解決方案。
GL-ASL納米壓印材料/納米壓印抗粘處理 參考價(jià)：面議
天仁微納自主研發(fā)、生產(chǎn)及銷售GL-ASL納米壓印抗粘處理，用來減少子模具復(fù)制材料和原始模具的粘度，有利于脫模，增加對(duì)原始模具的保護(hù)。
Primer納米壓印增粘劑 參考價(jià)：面議
天仁微納自主研發(fā)、生產(chǎn)及銷售Primer納米壓印增粘劑，用來增加納米壓印膠和基底的粘度，提高產(chǎn)品質(zhì)量和良率。
工作模具/子模具復(fù)制材料 參考價(jià)：面議
工作模具/子模具復(fù)制材料優(yōu)點(diǎn)：結(jié)構(gòu)保型性好，精度遠(yuǎn)遠(yuǎn)優(yōu)于傳統(tǒng)PDMS材料，可達(dá)50納米以下精度，使用壽命長(zhǎng)。
拼版復(fù)制模具 參考價(jià)：面議
拼版復(fù)制模具通過拼版技術(shù)，將原始模具上的結(jié)構(gòu)多次復(fù)制到玻璃復(fù)制模具上，進(jìn)行納米壓印量產(chǎn)。可以節(jié)省原始模具的加工面積，降低原始模具的加工成本和周期。
復(fù)制模具 參考價(jià)：面議
復(fù)制模具通過特殊工藝，將原始模具上的結(jié)構(gòu)1:1復(fù)制到玻璃復(fù)制的模具上，進(jìn)行納米壓印量產(chǎn)。可增加原始模具使用壽命，降低制作原始模具成本。
標(biāo)準(zhǔn)壓印模具 參考價(jià)：面議
標(biāo)準(zhǔn)壓印模具天仁微納還提供一些帶有納米孔、納米柱、納米線條等標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的標(biāo)準(zhǔn)模具。如有需求，請(qǐng)聯(lián)系我們咨詢。
UniHotplate桌面型熱板 參考價(jià)：面議
UniHotplate桌面型熱板是一種桌面型熱板，可烘烤8英寸或者6寸方片。溫度設(shè)定20℃~250℃。
UniCoater桌面型旋涂勻膠設(shè)備 參考價(jià)：面議
UniCoater桌面型旋涂勻膠設(shè)備是一種桌面型旋涂勻膠設(shè)備。可旋涂8英寸或者6英寸方片。
GL MegaClean單片式兆聲波清洗設(shè)備 參考價(jià)：面議
GL MegaClean單片式兆聲波清洗設(shè)備基材尺寸大300mm直徑以下圓片清洗；單片掃描式毛刷清洗、二流體清洗、兆聲波清洗。
GL Plasma等離子體清洗設(shè)備 參考價(jià)：面議
? GL Plasma等離子體清洗設(shè)備數(shù)適用于大300mm直徑以下晶圓或者330×400mm基材（軟工作模具基材）。
GL Spin+HP旋涂勻膠設(shè)備+熱板 參考價(jià)：面議
GL Spin+HP旋涂勻膠設(shè)備+熱板適用于大300mm直徑以下圓片或者9英寸方片旋涂勻膠與烘烤工藝。
GL SR300 300mm步進(jìn)式納米壓印光刻/拼版設(shè)備 參考價(jià)：面議
GL SR300 300mm步進(jìn)式納米壓印光刻/拼版設(shè)備是一種步進(jìn)式紫外納米壓印設(shè)備，可以在300mm尺寸基底上加工精度優(yōu)于20納米的三維結(jié)構(gòu)，還可以用于將小面...
GL4 R D研發(fā)型納米壓印光刻設(shè)備 參考價(jià)：面議
GL4 R D研發(fā)型納米壓印光刻設(shè)備是一種專門為大學(xué)、科研院所和企業(yè)產(chǎn)品研發(fā)所設(shè)計(jì)，功能強(qiáng)大的多功能研發(fā)型納米壓印光刻設(shè)備。通過簡(jiǎn)單的夾具更換，可以實(shí)現(xiàn)旋涂壓印...
GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設(shè)備 參考價(jià)：面議
GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設(shè)備是一種專門為晶圓級(jí)光學(xué)加工（WLO-Wafer Level Optics）開發(fā)的全幅紫外納米壓印設(shè)備，可在200...
GL8 CLIV Gen2高精度紫外納米壓印光刻設(shè)備 參考價(jià)：面議
GL8 CLIV Gen2高精度紫外納米壓印光刻設(shè)備是天仁微納新型全幅高精度紫外納米壓印設(shè)備，標(biāo)配天仁微納CLIV（Contact Litho in Vacuu...
GL300 Cluster納米壓印光刻生產(chǎn)線 參考價(jià)：面議
GL300 Cluster全自動(dòng)納米壓印光刻生產(chǎn)線是模塊化的全自動(dòng)納米壓印生產(chǎn)線，集成了從納米壓印基底清洗、涂膠、烘烤、冷卻直至納米壓印全套工藝步驟。標(biāo)配天仁微...
UniPrinter研發(fā)型Desktop納米壓印光刻設(shè)備 參考價(jià)：面議
UniPrinter研發(fā)型Desktop納米壓印光刻設(shè)備是一種專門為大學(xué)、科研院所和企業(yè)產(chǎn)品研發(fā)所設(shè)計(jì)，操作簡(jiǎn)單、功能強(qiáng)大的臺(tái)面型納米壓印光刻設(shè)備。可實(shí)現(xiàn)4英寸...
GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設(shè)備 參考價(jià)：面議
GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設(shè)備產(chǎn)能可大于40片每小時(shí)，適合DOE、AR/VR衍射光波導(dǎo)（包括斜齒光柵）、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、...
GL300 MLA全自動(dòng)紫外納米壓印光刻設(shè)備 參考價(jià)：面議
GL300 MLA全自動(dòng)紫外納米壓印光刻設(shè)備適用于DOE、勻光片（Diffuser）、微透鏡陣列、菲涅爾透鏡等產(chǎn)品的研發(fā)和量產(chǎn)。(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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