隨著科技的進(jìn)步，等離子去膠機(jī)在現(xiàn)代工業(yè)上高速發(fā)展，原因也很簡(jiǎn)單，選擇等離子去膠機(jī)是因?yàn)樗僮骱?jiǎn)單、工作效率高、低成本、環(huán)保且去膠后表面光潔。下面是由金鉑利萊小編為大家介紹等離子去膠機(jī)在使用中四大影響要素，希望能幫到大家。

一、    調(diào)整合適的頻率：

頻率越高，氧越易電離構(gòu)成等離子體。頻率太高，以致電子振幅比其平均自由程還短，則電子與氣體分子磕碰概率反而減少，使電離率降低。通常常用頻率為 13.56MHz及2.45GHZ 。

二、    調(diào)整合適功率：

關(guān)于必定量的氣體，功率大，等離子體中的的活性粒子密度也大，去膠速度也快；但當(dāng)功率增大到必定值，反響所能耗費(fèi)的活性離子到達(dá)飽滿，功率再大，去膠速度則無(wú)顯著添加。由于功率大，基片溫度高，所以應(yīng)根據(jù)技術(shù)需求調(diào)理功率。

三、    調(diào)整適合的真空度：

恰當(dāng)?shù)恼婵斩龋墒闺娮舆\(yùn)動(dòng)的平均自由程變大，因而從電場(chǎng)取得的能量就大，有利電離。別的當(dāng)氧氣流量必守時(shí)，真空度越高，則氧的相對(duì)份額就大，發(fā)生的活性粒子濃度也就大。但若真空度過(guò)高，活性粒子濃度反而會(huì)減小。

四、    氧氣流量的調(diào)整：

氧氣流量大，活性粒子密度大，去膠速率加速；但流量太大，則離子的復(fù)合概率增大，電子運(yùn)動(dòng)的平均自由程縮短，電離強(qiáng)度反而降低。若反響室壓力不變，流量增大，則被抽出的氣體量也添加，其間尚沒參與反響的活性粒子抽出量也隨之添加， 因而流量添加對(duì)去膠速率的影響也就不甚顯著。

以上便是金鉑利萊等離子清洗機(jī)廠家為大家整理分享，是不是對(duì)等離子去膠機(jī)的使用有了更深入的了解，如果您還有什么疑問(wèn)，歡迎您咨詢。更多等離子去膠機(jī)的新資訊，歡迎您關(guān)注【金鉑利萊】。