超純水設備系統

超純水設備系統為滿足各對水質要求比較高的超純水用水，旭升研發生產的超純水設備，本款設備采用雙級反滲透工藝，plc系統全自動化控制，使用更方便，設備整體采用316不銹鋼材質，設備整體性能，led屏顯示，各項參數，直觀展現，產水達到醫用純化水標準。

 超純水設備根據半導體芯片用水要求，采用較好的全自動CEDI電去離子超純水處理技術，前置預處理配套使用加反滲透處理，有效去除水中各種鹽份及雜質，然后運用CEDI系統，進一步提升水質，超純水水質*符合半導體超純水用水要求。超純水系統采用全自運控制，設備具有產水水質穩定、操作簡便、運行費用低、綠色環保、維護方便等優點，已廣泛應用于電子、醫藥、電力、汽車等相關行業。

二、超純水設備制備工藝

1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 （≥18MΩ.CM）(傳統工藝) 反滲透+混床設備

2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）(新工藝)

3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(新工藝)

4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(新工藝)

5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象 （≥15MΩ.CM）(傳統工藝) EDI設備

三、超純水設備水質標準

半導體芯片清洗超純水設備出水水質*符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準