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41次善準等離子刻蝕機VP-RS8采用真空不銹鋼腔體等離子清洗裝置技術，真空腔體不銹鋼材質，功率500W，頻率13.56MHz，能對材料起到清潔、刻蝕、活化、改性的作用，滿功率運行3分鐘，腔體溫度不高于45℃，不損傷樣品，適用于硅片刻蝕、晶圓去膠、金屬刻蝕、芯片去膠、半導體刻蝕、硅材料刻蝕、碳毯（CF）、微流控芯片PDMS鍵合、ITO導電玻璃、纖維、單晶硅片、PET、二氧化硅等幾乎所有材料的PLASMA等離子體干法刻蝕處理。
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