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目錄:深圳市科晶智達科技有限公司>>薄膜制備設備>>蒸發鍍膜設備>> 鈣鈦礦鍍膜機

鈣鈦礦鍍膜機
  • 鈣鈦礦鍍膜機
參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
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具體成交價以合同協議為準
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 廠商性質 生產商
  • 所在地 深圳市
屬性

產地類別:國產 應用領域:電氣

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更新時間:2025-02-17 12:53:19瀏覽次數:1726評價

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產地類別 國產 應用領域 電氣
鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發沉積室、真空排氣系統、真空測量系統、蒸發源、樣品加熱控溫、電控系統、配氣系統等部分組成。適用于制備金屬單質薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等,可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作,也可用于大批量生產前的試驗工作,廣泛應用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領域。

鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發沉積室、真空排氣系統、真空測量系統、蒸發源、樣品加熱控溫、電控系統、配氣系統等部分組成。適用于制備金屬單質薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等,可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作,也可用于大批量生產前的試驗工作,廣泛應用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領域。

功能特點
  • 樣品位于真空室上方,蒸發源位于真空室下方,向上蒸發鍍膜,且蒸發源帶有擋板裝置。

  • 設有烘烤加熱功能,可在鍍膜過程中加熱樣品,MAX烘烤加熱溫度為180℃。

  • 設有斷水、斷電連鎖保護報警裝置及防誤操作保護報警裝置。

技術參數
鍍膜室● 不銹鋼材料,采用方形前后開門結構,內帶有防污板,腔室尺寸約為600mm×450mm×450mm
真空排氣系統● 采用分子泵+機械泵系統
真空度● 鍍膜室極限真空≤6×10-4Pa
系統漏率● ≤1×10-7Pa
蒸發源● 安裝在真空室的下底上;有機蒸發源4個、容積5ml,2臺蒸發電源,可測溫、控溫,加熱溫度400℃,功率0.5KW;無機蒸發源4套、容積5ml,2臺蒸發電源,加熱電流300A,功率3.2KW;蒸發源擋板采用自動磁力控制方式控制其開啟
樣品架● 安裝在真空室的上蓋上,可放置?120mm的樣品、載玻片,旋轉速度0-30rpm
加熱溫度● RT-180℃,測溫、控溫
膜厚控制儀● 石英晶振膜厚控制儀,膜厚測量范圍0-999999?

 

鈣鈦礦鍍膜機

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