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紋影儀可用來觀察透明介質因各種因素引起的擾動的分布、傳播過程以及擾動強度等。如研究激光與物質作用、分層流、多項流、傳熱與傳質、激波、超聲速流、燃燒、火焰、爆炸、等離子體、內彈道及某些化學反應等學科的流場密度變化科學研究。
技術參數：
參數 | 上限值 | 下限值 | 備注 |
視場 | Φ1000mm | Φ50mm | |
相對孔徑 | 1:10 | 1:20 | |
像鑒別率 | ≥40lp/mm | ||
照明設備 | 普通激光光源、LED光源、鎢燈光源 | ||
成像傳感器 | 數碼單反相機、高速相機、記錄干板 | ||
狹縫類型 | 單狹縫、多狹縫、小孔、色散棱鏡或光柵、彩色圓孔或者方孔狹縫 | ||
刀口類型 | 單刀口、雙刀口、四刀口、柵格刀口、圓形刀口等 | ||
結構類型 | 積木式、筒式、平板式或者相關結構類型 | ||
紋影儀其中主反射鏡光學材料：K9光學玻璃，應力≤2，加工面型精度＜1/10λ；反射面真空鍍鋁，鍍二氧化硅保護膜。小反射鏡表面真空鍍鋁，鍍二氧化硅保護膜，反射系數≥90%，面型精度＜1/10波長。
該系統主要的光機部件主要可以分為：光源狹縫系統、主球面反射鏡裝調機構、刀口成像系統三個部分。其中，光源狹縫系統和其中一塊主球面反射鏡組成準直系統，刀口成像系統與其中一塊主球面反射鏡組成紋影觀視系統，分別布局于兩個平臺上。
紋影法，又稱紋影技術，包括黑、白紋影法，彩色紋影法和干涉紋影法，是用紋影系統進行流場顯示和測量的常用的光學方法。紋影法首先由Toepler于1864年提出，并應用在光學玻璃折射率的檢測中。
1952年 ，Holde和Norht在紋影系統上使用白光的分光棱鏡 ，實現了彩色紋影成象，擴大了紋影技術的應用范圍；1962年，Bland和pelick用紋影法研究了水的壓力和溫度效應后指出，紋影法實用于水洞 的流場顯示；1974年 ，Merzkirch對可壓縮流場中的紋影技術進行了分類，把涉及到在紋影系統上進行的干涉紋影法的研究 ，包括光柵干涉、棱鏡干涉以及Moire條紋干涉等 ，均歸類于紋影技術,并得到國內同行的認可。
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