安晟1200℃立式管式氣氛爐適用范圍：

       1200度立式管式氣氛爐主要應用于院校實驗室、工礦企業實驗室，應用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。

安晟1200℃立式管式氣氛爐產品概述：

              1200度立式管式氣氛爐的*設計能夠實現在真空或氣氛保護條件下對樣品快速升降溫，四面加熱，溫場更均勻，立式結構使得氣體排放更加順暢，爐體垂直安裝在可移動支架上有利于爐管取放溫度的均勻性，可以預抽真空并能通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點，特別適合薄膜生長、電極測試、氧化物晶體生長、快速退火等實驗需要！