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液晶檢查顯微鏡簡述

閱讀:972發布時間:2017-7-7

主要特點:
    UIS無限遠校正光學系統,提供出色的圖像質量;
    人機工程學的進一步改善,使操作更為舒適;
    多種高度功能化的附件,能滿足各種檢驗需要。
 
用途:
    針對半導體工業、硅片制造業、電子信息產業、治金工業開發的,作為工業顯微鏡使用。可進行明暗場觀察、落射偏光、DIC觀察,廣泛用于工廠、研究機構、高等院校對硅片、電路基板、FPD、精密模具的檢測分析。
 
優點:
    配有大移動范圍的載物臺、落射照明器、平場無限遠長工作距離明暗場物鏡、大視野目鏡、圖像清晰,襯度好。
 
優勢:
    緊湊的Y型勻設計,穩定且占地小;
    新的光路設計,光效率更高,采用長壽命鹵素光源;
    反射鏡體,可用于明場、簡易偏光、微分干涉相襯觀察;
    顯微鏡本體,反射照明器,物鏡轉換器都采用防靜電設計(ESD)。

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