GALVANOTEST 2000電化學(xué)去鍍測厚儀一級代理

GALVANOTEST 2000測厚儀根據(jù)DIN 50955 / ISO 2177的庫侖電鍍或電化學(xué)去鍍技術(shù)適用于實(shí)際上所有基材上的電鍍涂層的測量，即：在鋼，有色金屬和絕緣材料上的測量。 鋼上的鎳，鋼上的鋅，銅上的錫，銅上的銀和環(huán)氧樹脂上的銅。 該方法也適用于測量多層系統(tǒng)的各種涂層，例如鋼上銅上的鎳鉻。

測量原理是基于法拉第定律

??與電鍍方法相反，涂層從樣品中電化學(xué)去除。 為此，將不銹鋼測量池放置在要測量的樣品上。 電池填充有根據(jù)涂層/基底組合選擇的電解質(zhì)溶液。 放置在電池和樣品之間的橡膠墊圈限定了測量區(qū)域，例如， 4平方毫米。 測量裝置電連接到電子處理單元。 當(dāng)接通時(shí)，恒定電流流過電解液，以電化學(xué)方式去除電化學(xué)金屬涂層。

GALVANOTEST 2000電化學(xué)去鍍測厚儀一級代理

測量原理庫侖去鍍法
可測量涂層/基體
組合：70以上請參考電解液選擇表
測量范圍0.05? 75個(gè)中心
去鍍速度0.3 ... 40微米/分（可調(diào)）
測量單位μm（微米）/英寸（可調(diào)）
顯示讀數(shù)4位數(shù)字顯示浮點(diǎn)數(shù)
字母數(shù)字顯示16位數(shù)字
顯示儀器設(shè)置和操作步驟
用于監(jiān)測去鍍工藝的模擬儀器
數(shù)據(jù)存儲(chǔ)zui大 2,000個(gè)讀數(shù)zui多可存儲(chǔ)10個(gè)應(yīng)用程序
通過鍵盤操作
數(shù)據(jù)端口RS 232 CfürMiniPrint 4100，PC或其他兼容打印機(jī)
y-t寫入器的模擬輸出
電源可從110V / 200V±10％50 ... 60Hz / 10瓦切換
重量儀器：約 2.5公斤精密架：約 2,5公斤

篤摯儀器現(xiàn)貨代理！涂層厚度測量儀器系列GalvanoTest 2000/3000由ElektroPhysik Dr. Steingroever GmbH＆Co. KG制造。 良好的2000和3000具有功能和實(shí)用的厚度計(jì)，其操作在庫侖原理上，用于測量金屬或非金屬基底上的所有類型的電鍍單層或多層涂層由鉻，鎳，黃銅，銀等制成。 測量范圍為0.05至75μm，測量池配有循環(huán)泵。 它具有各種類型的附件，用于在諸如線材和多層涂層的小部件上進(jìn)行測量。