SWC-4000兆聲晶圓清洗：

SWC-4000兆聲晶圓清洗機應用：

• 帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
• Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗
• CMP處理后的晶圓片清洗
• 晶圓框架上的切粒芯片清洗
• 等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
• 帶保護膜的分劃版清洗
• 掩模版空白部位或接觸部位清洗
• X射線及極紫外掩模版清洗
• 光學鏡頭清洗
• ITO涂覆的顯示面板清洗
• 兆聲輔助的剝離工藝

SWC-4000兆聲晶圓清洗機的特點：

• 支持12"直徑的圓片或9"x9"方片
• 獨立系統
• 無損兆聲,試劑，毛刷清洗及旋轉甩干
• 微處理機自動控制
• 化學試劑滴膠單元
• 溶劑與酸分離排廢
• 熱氮
• 30"D x 26"W 的占地面積

SWC-4000兆聲晶圓清洗機選配項：

• 掩模板或晶圓片夾具
• 臭氧清洗
• PVA軟毛刷清洗
• 高壓DI清洗
• 氮氣離子發生器

客戶可以根據基板尺寸的大小訂制不同的兆聲清洗系統，如有技術咨詢，請及時：