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NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機：*進的全自動濺射系統帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能的8“旋轉樣平臺,Z大可支持到3個偏軸平面磁控管。...

NSC-3500（M）磁控濺射系統：帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到8“旋轉平臺，Z大可支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真...

NSC-3500（A）全自動磁控濺射系統：立式自動系統，帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉平臺，Z大可支持到4個偏軸平面磁控管。系統配...

NSC-4000（A）全自動磁控濺射系統：立式自動系統，帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉平臺，Z大可支持到4個偏軸平面磁控管。系統配...

NSC-4000NSC-4000（M）磁控濺射系統：帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到8“旋轉平臺，Z大可支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦...

NEE-4000（A）全自動電子束蒸發系統：NEE-4000電子束蒸發系統為雙腔配置，樣品臺位于主腔體，二級腔體則用于安置電子束源。兩腔體之間的門閥作為預真空鎖...

NEE-4000（M）電子束蒸發系統：NEE-4000電子束蒸發系統為雙腔體的配置，樣品臺位于主腔體，二級腔體則用于安置電子束源。兩個腔體之間的門閥可以作為預真...

NTE-3500Thermal Evaporator熱蒸發系統：提供NTE-4000和NTE-3000型號的PC計算機控制的熱蒸發系統，可沉積有機物和金屬。設備...

NEE-4000E-Beam電子束蒸發系統： NEE-4000電子束蒸發系統為雙腔體的配置，其中樣品臺位于主腔體內，二級腔體則用于安置電子束源。兩腔體之間帶有門...

NTE-3500（M）熱蒸發系統：NTE-3500是PC控制的緊湊型立式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及...

NTE-3500（A）全自動熱蒸發系統：全自動立式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復的工藝特點。具有...

NTE-4000（M）熱蒸發系統：NTE-4000是PC控制的立式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復...

NTE-3000熱蒸發系統：NTE-3000是PC控制的臺式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復的工藝...

NTE-4000（A）NTE-4000（A）全自動熱蒸發系統：全自動立式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及...

NOC-4000離子束刻蝕濺射鍍膜一體機：NANO-MASTER 離子束清洗拋光-磁控濺射鍍膜系統提供*進的技術，在一個腔體中實現原子級清洗和光學樣片拋光，然后...

光學元件原子級拋光鍍膜設備：NANO-MASTER 離子束清洗拋光-磁控濺射鍍膜系統提供*進的技術，在一個腔體中實現原子級清洗和光學樣片拋光，然后把樣片傳送到第...