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當(dāng)前位置:北京亞科晨旭科技有限公司>>微納加工平臺(tái)-圖形發(fā)生>>電子束曝光>> CRESTEC超高分辨率電子束光刻EBL(CABL-UH series)
參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)CRESTEC
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地北京市
更新時(shí)間:2024-09-25 15:31:58瀏覽次數(shù):2111次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 化工儀器網(wǎng)RAITH多功能電子束曝光系統(tǒng)eLINE Plus
Electron Beam Lithography System(EB
產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 150萬-200萬 |
---|---|---|---|
應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池 |
超高分辨率電子束光刻EBL
Ultrahigh Resolution EB Lithography (CABL-UH series)
納米光刻技術(shù)在微納電子器件制作中起著關(guān)鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術(shù)制作中是好的方法之一。日本CRESTEC公司為21世紀(jì)先進(jìn)納米科技提供 的電子束納米光刻(EBL)系統(tǒng),或稱電子束直寫(EBD)、電子束爆光系統(tǒng)。
超高分辨率的電子束光刻CABL-UH系列的型號(hào)包括:
CABL-UH90 (90keV) 、CABL-UH110 (110keV) 、CABL-UH130 (130keV)
技術(shù)參數(shù):
加速電壓:高130keV
單段加速能力達(dá)到130keV,盡量減少電子槍的長(zhǎng)度
超短電子槍長(zhǎng)度,無微放電
電子束直徑<1.6nm
小線寬<7nm
雙熱控制,實(shí)現(xiàn)超穩(wěn)定直寫能力
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