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詳細摘要： KBB低溫定點黑體爐，固定點可選。35…100℃，每間隔5℃為1固定點；100…150℃，每間隔10℃為1固定點. 輻射面尺寸：51mm。

詳細摘要： BBS75低溫面源黑體爐采用半導體制冷，靶面2.5“ x 2.5“，在0.8 - 30 um波長范圍內發射率達到0.95以上，可提供溫度范圍-30 - 75℃.

詳細摘要： BBS145低溫面源黑體爐采用半導體制冷，靶面2.5“ x 2.5“或3“ x 3“，在0.8 - 30 um波長范圍內發射率達到0.95以上，可提供溫度范圍-...

詳細摘要： BBS120低溫面源黑體爐采用半導體制冷，靶面尺寸Ф50mm，發射率0.98，可提供溫度范圍-15 - 120℃.

詳細摘要： BBS150低溫面源黑體爐采用半導體制冷，靶面6“ x 6“，在0.8 - 30 um波長范圍內發射率達到0.95以上，可提供溫度范圍-5 - 150℃.

詳細摘要： BBS230-EX大面源黑體爐，輻射面尺寸達12" x 12"，發射率高達0.96，可提供環溫至230℃的溫度范圍。

詳細摘要： BBS350-EX大面源黑體爐，輻射面尺寸達12" x 12"，發射率高達0.96，可提供環溫至350℃的溫度范圍。

詳細摘要： BBS500-EX大面源黑體爐，輻射面尺寸達12" x 12"，發射率高達0.96，可提供環溫至500℃的溫度范圍。