如果將工件直接作為離子轟擊的靶材，工件表面就會受到離子刻蝕。如果將工件放置在靶材附近，靶材原子就會濺射到工件表面而被濺射沉積吸附，哈默納科鍍層設(shè)備諧波CSD-20-100-2UH使工件表面鍍上一層靶材原的薄膜。如果離子能量足夠大并垂直工件表面撞擊時，離子就會鉆進工件表面，這就是離子的注入效應。

   2.特點

   1功口工精度高，易精確控制。離子束可以通過離子光學系統(tǒng)進行聚焦掃描，共聚焦光斑可達1um以內(nèi)，因而可以精確控制尺寸范圍·離子束轟擊材料是逐層去除原子，所以離子刻蝕可以達到毫微米〔0.001E}m)級的加工精度·離子鍍膜可以控制在亞微米級精度，離子注入的深度和濃度也可極精確地控制。

• 污染少。離子束加工在高真空中進行，污染少哈默納科鍍層設(shè)備諧波CSD-20-100-2UH，特別適合于加工易氧化的金屬、合金及半導體材料。

   3)加工應力、變形極小。離子束加工是一種原子級或分子級的微細加工，作為一種微觀作用，其宏觀壓力很小，適合于各類材料的加工，而且加工表面質(zhì)量高。

二、離子束加工設(shè)備

   離子束加工設(shè)備與電子束加工設(shè)備相似包括離子源、真空系統(tǒng)、控制系統(tǒng)和電源等四個部分。但對于不同的用途，離子束加工設(shè)備有所不同。