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北京同德創業科技有限公司

探討勻膠顯影機的原理

時間:2016-11-16閱讀:637
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勻膠顯影機 型號:SC100-DE
  SC100-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作,又可用于半導體顯影和清洗的臺面式設備,它可以實現價值百萬美元設備(track)的上才可能達到穩定性和均勻性。 

  不銹鋼外殼比塑料或者烤漆金屬更耐久和美觀;工業級別200瓦伺服電機系統,采用與track設備相同設計和程序,使您的工藝更具有實際應用意義;同類產品中的zui大達到50000RPM/S的旋轉加速度,確保勻膠和顯影的穩定性和高的可重復性。 
主要性能指標: 
主機機箱采用不銹鋼材料(抗化學腐蝕易清潔)  
旋涂程序:zui多可存100組程序,每組100步,每個步驟可到0.1秒  
轉動速度:0-10,000rpm(更高速可選)  
旋涂加速度:0-50,000rpm/sec(空載)  
馬達旋涂轉速穩定性能誤差 < ±1rpm  
轉速調節精度<1rpm,重復性< 1rpm  
工藝時間設定: 0-3,000 sec/step,時間設置精度:0.1sec  
支持wafer尺寸1cm-200mm(8“圓晶)  
標準配置兩路噴液系統(顯影液和去離子水) 



產品特性優點: 
主機在SC100-SE勻膠機上升級,增加耐腐蝕高分子材料防濺式罩蓋 

全程序編輯功能,更方便的智能化操作,更好的顯影/清洗效果  
可實現zui多獨立四路噴液用于顯影/清洗工作,或進行氮氣吹干  
控制器可實現程序自動控制噴液或進行手動操作,使用更加方便 

顯影系統可進行噴霧式、柱流式多種選擇,視要求進行配置  
提供客戶定制化的顯影系統配置和工裝設計  
高可靠性和重復性,高轉速精度和更高轉速可選  
可添加去邊膠和背膠清洗功能

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