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產品簡介
可實現寬域均熱區，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染。可在高真空， 高出純度氣體中加熱。設備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐，是一種理想的高真空退火爐。
詳細介紹
儀器介紹：
華測儀器通過多年研究開發了一種可實現，高反射率的拋物面與高質量的加熱源相配置儀器——高真空退火爐。它能在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布。設備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。可實現寬域均熱區，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染。可在高真空，高出純度氣體中加熱。還能節省時間并提高實驗速度；不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求；安裝簡單，有冷卻系，可靠；提高試驗人員的工作效率，實現全溫度控制操作。
高真空退火爐
設備優勢：
1、它可以勻速、階梯（升降溫）、循環沖擊、真空、氣氛等多種的加熱方式。
2、采用全移相觸發技術，實現控制精度波動0.5℃以內，溫控精度之高。
3、加熱速度之快，同時它可以提供材料多性的測試環境。
設備結構：
序號 | 項目 | 數量 | 品牌 | 備注 |
1 | 爐體 | 1 | 華測 | 大溫度1200℃ |
2 | 加熱源 | 1 | GE（） | |
3 | 溫度控制器 | 1 | 華測 | |
4 | 電熱偶 | 1 | omega | |
5 | 溫控表 | 1 | 歐姆龍（） | |
6 | 穩壓電源 | 1 | 華測 | 可定制 |
7 | 制冷水機 | 1 | 同飛 | 制冷功率8KW |
8 | 分子泵 | 1 | 萊寶（） | CF法蘭，抽速≥40L/s，極限真空度優于-0.8Mpa |
儀器試樣試驗：
多應用：
樣品腔內徑≥30mm； 退火爐外徑：≤100mm
1、電子材料
半導體用硅化合化的PRA (加熱后急速冷卻）
熱源薄膜形成
激活離子注入后
硅化物的形成
2、陶瓷與無機材料
陶瓷基板退火爐
玻璃基板退火爐。
3、鋼鐵和金屬材料
薄鋼板加熱過程的數值模擬
爐焊接模擬
高真空熱處理（1000°c以下）
大氣氣體熔化過程
壓力下耐火鋼和合金的熱循環試驗爐
4、復合材料
耐熱性評價爐
無機復合材料熱循環試驗爐
5、其他
高溫拉伸壓縮試驗爐
分段分區控制爐
溫度梯度爐
爐氣分析
超導陶瓷退火爐